8月28日半导体设备企业至纯科技（603690.SH）披露了2020年半年报，公司上半年虽然实现营收高增长，但净利润同比下滑近三成，基本每股收益和ROE等指标也有所回落，呈现出增收不增利的局面。

营收与净利润相背离

上半年至纯科技实现营收5.21亿元，同比增长57.07%；归母净利润0.30亿元，同比下降29.58%；扣非归母净利润0.25亿元，同比下降8.31%；基本每股收益0.119元，同比下降36.36%；ROE为2.04%，同比下降3.26个百分点。

上半年管理费用提升对至纯科技净利润带来较大影响。半年报计算可知公司管理费用率提升至10.2%，研发费用率提升至6.9%，财务费用率和销售费用率均有所提升，期间费用率提升至25.7%，处于近几年最高水平。此外公司报告期内计提信用减值损失1200万元，而去年无此费用，综合影响下公司上半年净利润明显下滑：

一季度受新冠疫情影响，至纯科技营收仅为1.13亿元，第二季度实现营收4.08亿元，同比和环比分别增长88.94%和261.06%。二季度公司单片清洗设备和槽式清洗设备出货超过10台，交付的12英寸单片式清洗设备也获得客户认可，未来随着订单逐步释放，营收有望不断增长。

三大业务渐成体系，清洗设备与多家企业形成竞争

至纯科技成立于2000年11月，2017年1月在上交所上市，2019年3月公司完成了对波汇科技的收购并涉足光传感应用及相关光学元器件领域，目前公司业务形成了以半导体湿法清洗设备为核心、高纯工艺系统和光纤传感器及光电子元器件为辅的业务体系。2019年公司实现营收9.86亿元，其中清洗设备、高纯工艺集成系统和光传感及光器件的营收占比分别为8%、65%和27%：

高纯工艺系统的核心是系统设计，主要由专用设备、侦测传感系统、自控及软件系统、管阀件等组成；系统前端连接高纯介质储存装置，系统终端连接客户自购的工艺生产设备。高纯工艺系统是相关制造业企业固定资产投资重要组成部分，约占固定资产投资总额的5%-8%。目前公司已涵盖高纯工艺系统及设备的设计、生产、安装调试以及配套工程服务及系统维护与检测等全过程，可为客户提供整体解决方案：

至纯科技清洗设备涉足较晚，2015年才开始启动湿法工艺设备研发，2017年设立全资子公司并负责清洗设备制造与销售，2019年才实现设备批量出货。目前公司拥有单片式和槽式清洗设备研发、生产及销售能力，其中槽式清洗设备主要有ULTRON B系列清洗设备，可满足8英寸和12英寸的28/14nm先进节点及65nm-0.8微米特色工艺节点的需求。至纯科技单片式清洗设备主要为ULTRON S系列，可满足8英寸和12英寸晶圆清洗：

在清洗设备领域至纯科技与盛美股份、北方华创和芯原微存在竞争。盛美股份拥有清洗、电镀和先进封装三大产品线，主要产品有单片清洗、槽式清洗、单片槽式组合清洗等半导体清洗设备，用于芯片制造的前道铜互连电镀设备、后道先进封装电镀设备以及用于先进封装的湿法刻蚀设备、涂胶设备、显影设备、去胶设备、无应力抛光设备和立式炉管系列设备等，与北方华创和芯原微电子在部分设备上形成竞争关系。盛美股份立足自主创新，通过多年的技术研发和工艺积累，研发出了全球首创的SAPS、TEBO兆声波清洗技术和Tahoe单片槽式组合清洗技术可应用于45nm及以下技术节点的晶圆清洗领域，可有效解决刻蚀后有机玷污和颗粒的清洗难题，并大幅减少浓硫酸等化学试剂的使用量，其产品也得到海力士、华虹集团、中芯国际、合肥长鑫等众多国内外主流半导体厂商认可。

至纯科技虽然从事清洗设备较晚，但公司在高纯工艺领域深耕十多年，海力士、中芯国际等也成为公司优质客户。2019年公司湿法工艺设备新增订单总额1.7亿元，目前建成投产的启东一期生产基地拥有48套/年的产能，一期和二期总规划产能96套/年，建成投产后公司产能不足问题有望解决，并且在半导体设备国产化中有望受益。

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