1、原理和仪器仪器
KLA的 Filmetrics 系列利用光谱反射技术,利用380~1050nm光谱垂直入射至样品表面,光线在薄膜薄界面处反射后干涉,记录干涉强度随着波长的变化,通过傅里叶变化可以计算得到膜层厚度。另外一种模式可以通过拟合对反射光谱进行计算,可以得到膜厚、折射率n、k数值。
2、技术参数
膜厚范围:20nm~70um;
光斑尺寸:1.5mm-150um;
波长范围:380~1050nm;
测试精度:<0.2% or 2 nm;
重复精度:0.05nm;
样品尺寸:直径<200mm;
测试速度:5point/5~10sec
3、测试结果输出
(1)FTT模式:
得到反射光干涉强度随着波长的变化图,FTT厚给出膜厚;
给出逐个点坐标与厚度值的对应mapping图(2D平面 and 3D)
一般选择5点、9点、49点、56点、81点等可选。
(2)Spectrum模式:
给出每点的反射光谱图及拟合得出的厚度及折射率数据。
A.原始数据:
B.2D mapping
C.3D mapping图
4、客户提供
(1)衬底+膜层结构;
(2)测试点数量和位置;
(3)数据报告中包含信息;样品信息、2D 色坐标及excel三维膜厚与坐标对应关系数据;
反馈数据的报告格式和模板;
5、测试大纲
(1)检测仪器状态,利用Si/SiO2标准片进行校准,确保设备正常工作状态;
(2)放置样品:选择合适尺寸的载台,将参考边对准载台定位边;
(3)设置参数:基底、膜层及模型的选择,测试点位mapping,可选线扫、面扫49点、56点;注意,一般膜厚拟合率GOF>0.9;
(4)报告整理:按照以上报告列表,给出mapping图、原始数据;
6、适用类别
半导体:光刻胶、SiO2/SiNx/SOI;
LCD:PI、ITO;
MEMS:光刻胶、多晶膜;
光学膜:硬质涂层、减反膜;
页面更新:2024-05-12
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