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关于光刻机

在2019年，华为等公司遭遇到了西方市场的不公对待，特别是在芯片领域更是遭遇到了非常严苛的限制，面对这种情况，我国启动了芯片产业链自我构建行动，并计划在2025年实现芯片自给率不低于70%。

在行动开始之后，国内诸多半导体芯片公司都参与其中，在2020年11月份华为更是被爆出计划在上海开设芯片代工厂的行动，并且根据介绍，该工厂将完全避开美国芯片技术，实现高度的自我技术供应。

而在这个过程中，也出现了一个比较麻烦的事情，那就是高精度EUV光刻机的缺失，因为到目前为止，我国上海微电子公司自主研发的光刻机最高水准还集中在22nm，并且在光源的选择上还不是极紫外光，而是深紫外光，也就是DUV光刻机。

这就导致我国在高精度芯片的自主生产上存在着短板，而想要突破这个短板，打造出属于我国自己的高精度极紫外光刻机是唯一出路。

清华大学正式宣布结果

而为了解决EUV光刻机的发展问题，在2020年中科院方面也提高了EUV光刻机的研发优先级，另外相关中企还加大了和日本佳能、尼康公司的光刻机合作，意图通过这种合作的方式，加速可供我国使用的光刻机产品的问世。

当相关中企和我国科研机构努力的同时，根据2月25日消息显示，清华大学正式宣布了一项研究结果，而这个结果和EUV光刻机的突破有着直接的关系，据悉清华大学工物系在新型加速器光源“稳态微聚束”研究中取得重大进展。

说得简单直接一些就是，清华大学发现了一种新型的粒子加速器光源，而该光源的波长可以覆盖从太赫兹到极紫外波段，有望为光子科学研究提供广阔的新机遇。

而该光源最直接的应用就是EUV光刻机，毕竟EUV光刻机的研发过程中，最核心也是最重要的技术就是光源，只要获取了波长短、功率大的光源，那么在一定程度上EUV光刻机的研发就成功了一半，而如今清华大学找到的这种新光源就完美的突破了我国在光源上的缺失。

当然，现阶段这种新型加速器光源“稳态微聚束”还处于实验室阶段，不过相信在清华大学的后期努力中，该光源一定能够进入工业应用阶段。

ASML万没想到来得这么快

而对于清华大学在极紫外光源上的发展，相信ASML公司也是万万没有想到，会来得这么快的，毕竟这距离我国提出要构建自己的芯片产业链计划也才刚刚过去了一年而已。

相信只要再给我国一些时间，很快我国将能够在EUV光刻机领域取得巨大进展，因为清华大学在该光源发展上已经在推动国家层面的立项了，后期一定会投入更多的资源进行发展研究，另外中科院和上海微电子公司也在推动光刻机相关配套技术的发展。

综合发展前景是一片看好的。

总结

当下我国对于芯片事业的发展可以说是已经蓄势待发了，中芯国际在代工工艺上已经逐步逼近7nm，距离一线巨头台积电、三星电子的距离也不会太，华为等公司已经着手发展EDA软件等技术，光刻胶、晶圆等方面相关中企也已经加速突破。

成为芯片大国、芯片强国的基础已经打牢，接下来只需要等待相关技术的成熟了。

你觉得需要多久我国才能够成为超级芯片强国呢？

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