光刻机，无时无刻不牵动着国人的心！现在一提到光刻机，大家就想到荷兰ASML，殊不知，ASML只是全球光刻机三巨头之一，另外还有两家，是日本的尼康和佳能。不过，这两家曾经的光刻机霸主，如今却逐渐没落，只能在中低端市场混了。

而荷兰ASML，曾经在尼康和佳能面前只能算小弟，因为跟台积电一起研发了浸润式光刻机，从此一骑绝尘，成了全球高端光刻机霸主，但依然受到美国的限制。因此，高端光刻机一直是我们的痛处。不过，最近好消息不断传来！

国产芯片设备与ASML光刻机完成联机

生产芯片需要经过设计、制造、封测三个环节，在设计方面，以华为海思为首的大陆芯片设计水平已经达到世界领先水平。在封测方面，我国长电科技、通富微电等实力也相当不俗。差就差在芯片制造，而制造上所需要的相关设备尤其关键。

不过，国内企业一直在努力。像上海微电子国产28nm光刻机今年就要交付，中微半导体5nm蚀刻机去年已供货台积电，百万伏离子注入机也已经突破。但芯片制造所需设备较多，需要逐个突破。近日好消息传来，国产涂胶显影机也实现大突破！

据媒体报道，芯源微公司的前道涂胶显影机与国际光刻机联机的技术问题已经攻克并通过验证，可以与包括荷兰ASML、日本佳能等国际品牌以及国内的上海微电子的光刻机联机应用。这是一个突破进展，直接打破了美国、日本巨头的垄断。

前道涂胶显影机，主要负责对晶圆涂抹光刻胶，是芯片制造的必需设备。它的突破并能与ASML高端光刻机联机应用，使我国芯片制造“卡脖子”又少一道。芯源微表示，目前订单比较饱满，这个突破将使芯片国产化替代又迈进一大步。

中企买下的三台ASML光刻机已经到位

上边的这个突破，是芯片制造的设备。我国在芯片制造上要实现国产化，不仅要突破芯片制造设备，芯片制造材料也需要突破，像光刻胶就是一项必不可少的重要材料 。而要研发这个光刻胶，也需要光刻机，因为需要实验验证。

我国的一家公司上海新阳，在业绩说明会上透露一个好消息，就是该公司购买的三台荷兰ASML光刻机，已经全部陆续到位，型号是ASML-1400，总价1亿元左右。大家可能会想为什么这么便宜，因为这是二手机器。

这也是无奈的选择，大家也知道我们现在面临的形势，西方对我国的进口光刻机是百般阻挠。尽管是二手机器，也是前几年订购的，先前只有一台真正到厂运行，后来的两台受到了各种禁令的限制，但结果总算是突破 了各种复杂程序，全部到位。

现在，上海新阳投入了7.32亿元，主攻193纳米ArF干法光刻胶的生产。近日，到位的光刻机正在安装调试，随后将搭建光刻胶验证平台，虽然只是二手光刻机，也将有得于促进光刻胶的生产，填补国产高端光刻胶空白，彻底打破美日垄断。

中芯国际就EUV光刻机跟ASML谈判

从上面上海新阳信息可以看到，我国进口光刻机是多少不容易。即使是二手光刻机，程序也非常繁琐。一直以来，我们想要进口国外先进设备，因为《瓦森纳协定》限制，总是只能购买到人家的二代产品，最新产品不能卖给我们。

像我们一直期待的EUV光刻机，是生产5nm及以下芯片的必需设备。中芯国际于2018年花费1.2亿美元（约合7.65亿元），向荷兰ASML订购了一台EUV光刻机，本应于2019年底前交付。但由于美国的多次阻挠，到现在依然没有能够到位。

但最近中芯国际好消息传来。梁孟松表示，更高端的5nm以及3nm芯片，研发工作都已准备就绪，一切只等EUV光刻机就位。好消息就是用媒体报道，在新就任的副董事长蒋尚义的牵线下，中芯国际对EUV设备再次与荷兰ASML进行洽谈。

这无疑是个好消息，不管能否成功，至少又开始进行沟通。蒋尚义新官上任总是要做出些成绩，这也许是他到任中芯国际的原因之一。当然，EUV光刻机肯定不会那么容易，但也说不准，现在美国正在自顾不暇的时候。

去年在美国芯片禁令开始实施后，我国中科院直接表态，要入局光刻机领域。之后荷兰ASML态度开始转变，在上海进博会上再次表示，向国内市场出货DUV光刻机是不需要许可的，但对于EUV光刻机设备却依然没有明确表示。

可见，对于EUV光刻机，荷兰ASML依然有顾虑。不过最近，ASML也表示向国内出货EUV光刻机不会违反规则，那就要看这次中芯国际与ASML沟通的结果 了。

但我们不能全寄希望于他们，上边的涂胶显影机突破、加强光刻胶验证、沟通EUV光刻机这三项，都说明我们在加强自研，争取自己突破，尽管需要时间，但只要不断进步，希望总是有的，相信芯片国产化最终能够实现！

大家觉得这次中芯国际能够获得EUV光刻机吗？欢迎留言讨论！