光刻机是芯片制造行业最为关键的设备之一，但能生产光刻机的厂家是少之又少，除了荷兰ASML，就是日本的尼康、佳能，这三家基本上垄断了全球光刻机行业。然而，尼康、佳能现在只能在中低端市场发展，基本上算是陪跑了。

当然，我国上海微电子生产的光刻机，目前也只能是低端市场。高端光刻机，尤其是EUV光刻机，现在只有荷兰ASML能够生产，可以说处于绝对垄断地位，因此独享顶端利润，从ASML的2020年财报看，毛利率达到48.6%，这非常之高了。

全球光刻机争夺战

这就是站在产业链上游的好处，一台EUV光刻机的价格达到1.2亿欧元，约合人民币10亿元左右，并且随着制程的不断缩小，价格还在增长。即使这样，依然供不应求，因此，ASML成了香饽饽，成了芯片制造行业争相拉拢的重要对象。

我国中芯国际也不例外，非常需要EUV光刻机，并于三年前就向ASML购买了一台，但大家都知道，因为美国多次阻挠，至今未到位。最近在新任副董蒋尚义的牵线下，又重启与荷兰ASML的谈判，但据说进展依然不很理想。

除了中芯国际，全球想进入7nm芯片制造的厂商，也就是需要EUV光刻机的只剩下台积电、三星、英特尔。即使就三家需要，争夺也是十分激烈，因为ASML每年生产的EUV光刻机数量有限，为此三星高层甚至亲自出访ASML。

就这样，ASML 2021年EUV产能约为45～50台，台积电就已经抢下当中的30台，余下的三星在积极争取。因为三星计划于2030年在芯片代工领域超越台积电，只有多拿下光刻机，继续扩大产能，获得更多订单，才能持续进步！

日媒终于说出真相

实际上，目前在国内，DUV及以下光刻机已经能够满足大多数需要。并且，上海微电子生产的前道光刻机能够实现90nm制程，在国内市场份额超过80%。还有，荷兰ASML也表示，对于DUV光刻机向我国出售已经不受限制。

但这其实并没有这么简单，西方对于我国的科技发展向来没安好心。最近，日本的《日经亚洲评论》刊登的一篇文章，终于说出真相：多年以来，美国对我国半导体制造的限制目标，就是要落后于全球顶尖水平至少两代！

每当我国企业有技术突破，想要在市场上占有一席之地时，国外企业就会利用更高端的产品来粉碎其努力。比如光刻机，上海微电子在2015年时要启动90 nm光刻设备量产，《瓦森纳协议》就立马改变，允许向我国出口高于45nm的光刻机。

于是，荷兰ASML生产的比90nm更先进的64nm光刻机，迅速占领了国内市场。上海微电子的90nm光刻机还没上市，就受到了巨大打击，发展严重受阻。这就是西方的打压套路，真是令人愤慨！对此，我们的企业必须引起警戒！

专家指明国内出路

就目前国内的芯片代工水平来说，中芯国际技术最先进。据梁孟松辞职信上介绍， 7nm技术已经完成，今年4月可以进入风险量产，5nm、3nm关键技术已经有序开展，只待EUV光刻机到来。也就是说，只有中芯需要EUV。

但即使如此，为了长远发展，我们也必须重视EUV光刻机相关的研究，尽管短期内攻克不容易，但必须要进行。就目前我国的半导体行业现状来讲，落后确实太多，不仅是光刻机，相关材料、设备、软件等都需要不断追赶。

那么，就目前的状况来说，我国的光刻机行业应该如何发展呢？半导体专家莫大康说出了自己的看法：我国要推进完整的光刻工业体系发展，只能采取从低到高的策略，比如193nm深紫外ArF干式光刻机、浸没式光刻机，以及周边设备材料等。

莫专家的这个思路非常适合现在的形势，就是要坚持双线并进的策略，一方面要加紧EUV光刻方面相关的研发， 另一方面要争取先在DUV等领域站住脚跟，从周边设备与材料切入，逐步解决产业中存在的问题，把产业做扎实！

对于光刻机，编者认为，应该多线并进。在EUV光刻机上，虽然美国阻挠，但中芯国际不能放弃，要继续沟通争取。同时，我国中科院去年已经宣布入局光刻机行业，应该统筹相关企业，加快研发步伐，争取早日有所突破！

另外，我们要认清西方的打压套路，为了扼制我国高科技发展，他们无所不用其极，像大家熟知的对华为的禁令，最近两年不断升级。还有当初的蚀刻机，之前限制出口，等中微半导体突破后，迅速解决限制，并降价销售。

因此，国内相关企业必须要抱团取暖、互相支持，对国产光刻机，不管是上海微电子，还是大族激光生产的，都要尽量优先使用，即使比国外光刻机略差，牺牲些个别利益也要支持，这样他们才能进步更快，这样国内半导体替代才能更快实现，彻底解决西方在这方面的“卡脖子”难题！