曾被视为最有希望今年量产化的28nm，迎来了美国制裁的“当头一棒”。

作为半导体成熟制程与先进制程的重要分界线，近年来国内对28nm的突破可谓突飞猛进，无论是已经多次对外发声的上微28nm光刻机，还是围绕28nm芯片量产的供应链体系，都在迅速成型，已经成为芯片国产化之路上最有希望攻克的一道城池。

光刻机依然是芯片卡脖子的重要原因

光刻机，这一许多人之前完全没有听说过的芯片制造设备，却因为华为被断供芯片，受到不少人的关注。要知道当今全球，有能力生产7nm乃至5nm工艺制程的芯片代工厂只有台积电和三星。但是有能力生产制造5nm工艺芯片的EUV光刻机的只有荷兰的ASML公司！

而ASML正是因为有用到美国的技术，而没有办法给我们供应EUV的光刻机，就连中芯国际下了订单，都迟迟没有交货。

不过这也只是生产先进制程的EUV光刻机没法给我们供应，所以导致5nm的芯片例如华为的海思麒麟9000处理器，就没办法继续生产了。

而ASML的DUV光刻机，也就是成熟工艺，例如28nm制程的成熟工艺光刻机，还是可以供应的。

实际上ASML历年来已经累计为中国供应了700多台光刻机，其中也包括DUV光刻机。

而作为先进工艺和成熟工艺的分界点，28nm工艺制程的芯片应用广泛，无论是智能汽车的芯片，还是华为等通信设备厂商的芯片，或者是智能家电和终端设备，大多数都是用的成熟工艺。

而我们的中芯国际实际上在28nm的工艺上已经完成突破，试运行的N+1项目，芯片的工艺性能已经接近7nm工艺制程。

硅谷卡住28nm脖子

另外，在没有获得许可的情况之下，台积电以及联电等TAIWAN芯片制造商都不允许将美国的设备转移到大陆。之前在4月份台积电曾经表示将会在南京扩产28纳米的台积电，如今受到这条禁令的影响，也不能够再回到南京来建设工厂，虽然中芯国际已经宣布要对28纳米进行扩产，但却没有办法获得EUV光刻机，这样一来，相当于美提高了卡脖子的上限。

这样一个消息还是让人非常意外的，值得一提的是，中芯国际虽然能够生产出28纳米芯片，但是最为关键的光刻设备依旧是需要通过外部来购买的。而关于28纳米制程的发展，早在今年年初，中国工程院院士吴汉明就曾经表示过，目前我们没有办法突破7纳米5纳米，那么就应该优先发展28纳米等等成熟制程的工艺，将国内的产能提高上去。

目前看来，吴汉明院士的呼吁是正确的，而我们也早就应该重视其吴汉明院士的呼吁了。作为成熟工艺以及先进工艺的分界点，28纳米的重要性毋庸置疑，美国此次做出这样一个行为，无疑就是想要限制国内半导体的发展。

本土28nm实力究竟如何

说到28nm产线的自主能力，就不得不提到当中两大最关键且最具挑战的环节，即刻蚀和光刻。但如今，刻蚀有中微、光刻有上微，这两大设备一度被国内标榜为相关制程的芯片能否真正实现纯国产化的关键。

目前刻蚀机方面，中微已经走在全球前列，2020年就推出了5nm的刻蚀机，得到了台积电、三星等主要代工厂的大量订购。而且目前，中微公司的3nm刻蚀机也已经进入了规模量产阶段，设计、制造、测试等都已经全部完成，这也意味着在关键的刻蚀领域，中国已经具备了本土化的能力。

但国产光刻机的进展可能就不那么乐观了，虽然市场曾多次传言上微的28nm光刻机已经在国内某大厂产线进行验证，但截止目前也都仅仅只是传闻，并未获得官方的确认。