芯片股行情，血仍未冷

光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠，是半导体光刻不可缺少的核心环节。

按照应用领域，可以分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶和其他，全球市场中这四者的供应比例均衡，均为25%左右；

但在中国本土市场的供应上，主要以低端PCB用光刻胶为主（国产化率50%），LCD和半导体用光刻胶供应量占比非常低，主要依靠进口。

光刻胶从低端到高端，分了好几类：g线、i线、KrF、ArF、EUV，从前到后越来越高端。

其中，KrF、ArF这两种类型的光刻胶已占据全球半导体用光刻胶销售额的60%以上。

这种分类，不是因为这个名称直接代表着光刻胶的成分，而是与光刻机的光源有关，代表着光刻机光源的种类，对应着不同的激光波长。

KrF对应着248nm的激光波长；ArF对应着193nm的激光波长；最新的EUV光刻胶，则到了13.5nm的波长。

激光波长越短，可以实现的光刻精度越高，所以要想实现7nm以下的工艺制程，就必须用到EUV光刻机，光刻机的精度不同，意味着需要对应配套的光刻胶的要求也不同。

光刻胶的身不由己，从原材料环节就开始了。

光刻胶是由光引发剂、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂组成的对光敏感的混合液体。

以ArF光刻胶各组分质量占比为例，它的溶剂占73%-95%，成膜树脂占5%-15%，光引发剂占0.05%-10%，其余添加剂占0.01%-2%。

其中，树脂和光引发剂是光刻胶最核心的部分。

树脂对整个光刻胶起到支撑作用，可以想象成光刻胶的骨架，它使光刻胶具有耐刻蚀性能。

它是科技含量最高的部分，不同的光刻胶树脂的结构不同，合成难度非常高，通常光刻胶厂商在合成一种树脂后就申请相应的专利，日本一直把光刻胶树脂等原材料的生产技术牢牢掌握在手中。

国内的企业虽然也有树脂产品，但集中在G线、I线用的树脂上，主要应用于PCB、LCD产品，KrF、ArF用的成膜树脂几乎没有；

圣泉集团虽有提供树脂的能力，但符合光刻胶要求的仅30%。

光引发剂是光刻胶材料中的光敏部分，能发生化学反应，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。

由于技术门槛高，光引发剂的话语权主要也是掌握在日商手中。

国内的强力新材虽然在技术方面有领先优势，但其主要应用在PCB领域，半导体领域的光引发剂还很弱。

总体来看，根据TrendBank的数据（2019年），全球光刻胶用光引发剂、溶剂、成膜树脂及单体的主要生产企业总共44家，所属地在日本的企业最多，占据全球光刻胶原材料生产企业数量的49%。

我国的企业虽然占比达到29%，但产量和规模较小，品种规格较为单一。

原材料主要靠进口，下一步的制作更是被掐住了命运的咽喉。

光刻胶的制造环节，要想突破，必经步骤是对领先的光刻胶产品进行逆向分析并且仿制。

但不同类别、厂家、应用的光刻胶，在成本配比，加工工艺不同，在敏感度、感光度、分辨率等性能上差距明显，存在配方壁垒。

又因为光刻胶材料无法直接拆解，很难分析出制造工艺和具体配比，模仿难度非常大。

另外，光刻胶是光刻机的核心耗材，光刻机与光刻胶在新产品开发、产品销售等方面均存在一定协同效应，上世纪七八十年代日本光刻机的崛起带动了其光刻胶的发展，形成了一定的设备和品控壁垒，使日本目前依然牢牢占据了光刻胶的垄断地位。

日本的JSR、东京应化、信越化学及富士胶片四家企业占据了全球70%以上的市场份额；具体到半导体光刻胶领域，他们四家也占据了60%以上的市场份额。

在材料和制造的双层困境下，国内的光刻胶情况有多艰难呢？

“没有一家ArF能看得”，这句话的确是现状。

中国半导体光刻胶技术水平与世界先进水平有2-3 代的差距，半导体领域KrF光刻胶国产化率5%左右，半导体领域ArF光刻胶份额仅有1%左右、EUV更是全部进口。

但这并不代表国内的企业不努力。

晶瑞股份、彤程新材、上海新阳等目前处于KrF通过验证或量产阶段。

南大光电是目前国内光刻胶暂时领先的企业，其在7月29日发布公告称其ArF光刻胶通过验收，虽然通过验收和实际大规模量产是两回事，但这是南大光电踏入新征途、高端光刻胶国产替代的起点。

有差距我们一直承认，有进步我们也看在眼里，光刻胶那1%很难，半导体前路漫漫，但中国必争。