近些年，我国的科技成就取得巨大进展，涌现出了诸如华为等高新技术科技企业，以华为5G为代表的高端技术已经令其他国家佩服和认同，华为的智能产品早已走出国门开辟全球市场了。

但是随着华为的发展壮大，部分国家感受到了危机，为了维持自己在科技领域的霸主地位，以M国为首，开始了对华为的疯狂打压，为了限制其手机业务的发展，他们制定出台了一些列措施，中断了高端芯片的供应。

芯片遭遇断供之后，我们也充分地认识到核心科技自主化的重要性，制造芯片成了当务之急。

但无奈光刻机制造领域技术含量高、所应用原件精密复杂，很难实现自主生产，于是我们向全球第一大的生产商ASML申请购买，但是受M国的影响，至今这一订单未能交付。

既然买不来，那我们就自己造，于是，国内开始对半导体领域进行了布局规划，许多科研团队也开始投入研发，不少企业也纷纷提供支持，目的只有一个，生产光刻机。

光刻机取得进展‍‍‍

近日，中科院方面传出好消息，中科院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出了一种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术，且修整效率相对较高。

相信很多人都对光学邻近效应修正技术不理解，说白了该项技术能够提高光刻机在制造芯片时候的成像质量，而且还能调高芯片的性能和优质率，可以降低芯片的制程难度。换句话说，该项技术可以使我国的光刻机水准进一步提高，从而加速了芯片生产自主化的进程。

光学邻近效应属于一门抽象的技术，归属于计算机光刻，而计算机光刻是光刻工艺的一种，也就是说出了对硅基晶圆上的光刻胶图像进行光化学反应的化学过程的化学工艺之外，还可以通过进行计算机模拟，从理论上探索提高光刻分辨率与光刻工艺的新途径，即为光刻制程提供工艺参数指导的计算机光刻。

上海光学在该项技术的突破，对我国的光刻机生产制造大有帮助，同时这一消息也让M国方面感到不安。

ASML担忧或将成为现实‍‍

早在限令实施之初，ASML等企业就曾表示，断供政策可能会引起业内的动荡，因为华为每年都与这些企业有着庞大的业务往来，中断合作会导致这些企业受到巨额损失，面临发展困境。

去年9月，中科院公开宣布进军半导体行业，要利用最短的时间、高效率地在光刻机领域实现突破，解决芯片短缺的发展难题，为国产科技企业的发展提供保障。

就在中科院入局之后，光刻机巨头ASML就慌忙向国企示好，似乎有很强烈的合作意愿，表示要加强芯片制造领域与我国的合作。

就在前不久，ASML公司的总裁还公开说过，如果不与中国合作并出售光刻机，三年之后，中国将掌握该项技术，ASML或将退出光刻市场。

ASML公司的担忧终并非空穴来风，甚至很有可能成为现实，随着我国在半导体领域坚持不懈地进行技术钻研并不断取得进展，很快我们摆脱对其他国家的依赖，也更不会再去想法设法购买光刻机了！

禁令开始松解？

随着我国在光刻机领域的不断突破，M国方面似乎对我们的制裁也有所缓解，比如前段时间华为公布的新款平板电脑--Mate Pad Pro，该款设备应用的就是高通4G版本的骁龙870的处理器，不少人都纷纷猜测高通可能已经被允许与华为合作了。

或许是我们的决心和取得进展让M国方面感到了不安，限制发展的愚蠢决定竟然成了对我们的激励，倒逼我们不断进步！所以很有可能未来他们将会逐步放开限制，进一步允许其他企业也与国企合作。

不过，此时我们仍不能放松警惕，一定要向着自主化生产的目标继续前进，心无旁骛地进行研究开发，早日摆脱受制于人的尴尬处境！