随着芯片的稀缺，光刻机开始被人们关注起来，作为工业科技上的一颗明星，光刻机集合了大量的先进技术，融合了不同国家多达十万个不同的零部件。不过这一先进的生产技术在全球范围内也仅仅只有四家企业能够独立掌握。分别是日本的佳能和尼康，国内的上海微电子和荷兰的ASML，其中拥有高端市场的仅ASML一家企业。

EUV光刻机

据有关数据显示，ASML所生产的DUV光刻机用来生产7nm以上制程的芯片，EUV光刻机则可以生产7nm制程以下的芯片。

随着M国的禁令实施后，国内市场的芯片供应面临中断，台积电等应用了M国技术的企业已经不能再给华为等国企供货，国内企业要想自主生产先进的芯片，就必须要拥有能够生产高端芯片的EUV光刻机。

但苦于EUV光刻机目前只有ASML掌握了研发生产技术，国内要想自己生产EUV光刻机短时间内还难以实现。既然造不出来，那就买！国内企业已经在3年前就向ASML订购了一台EUV光刻机，但是受M国的影响，该项计划一直未能完成，光刻机也始终没有交付。

面对如此尴尬的处境，国内对芯片半导体领域自主化生产的认识愈发清晰，国家出台政策文件，科研院所开始投入研发，国内大学重点培养人才，全方位地对半导体领域进攻。

要想生产高端的芯片，首要任务就是先拥有自己的光刻机，那么我们的光刻机目前能够实现下线生产吗？光刻机设备的技术上是否还存在障碍？

形势好转

据有关消息，目前清华大学的可研团队已经在光源技术方面取得心中的进展，据清华方面所提供的消息我们获悉，他们已经完成了首个新型粒子加速光源“稳态微聚束”的原理实验，而该项光源技术正是光刻机生产所必须的技术之一。

近日，ASML总裁曾公开表示，如果ASML等制造商不能向国内出售光刻机等设备，那么在短短的3年内中国将会研发出属于自己的光刻设备，到时候ASML的光刻机将彻底失去中国市场。此外，按照惯例，庞大的中国市场将必然会很快孕育出物美价廉的产品，到那时候，ASML的设备将会完全丧失竞争力。

据悉，由上海微电子生产的全新一代光刻机近期将会实现线下生产，该款设备应用的是193nm波长的光源技术，已经可以满足7nm以上制程的芯片生产需要，不过该款光刻机是DUV光刻机，仍旧不能生产7nm以下制程的高端芯片。

于是，许多人就不禁要问，国内何时才能实现自产EUV光刻机？毕竟我们目前主要卡脖子的地方就是高端芯片，如果没有EUV光刻机，说再多也是没有意义的。

近日，北大教授的一番话让我们看到了希望。虽然我们的EUV光刻机直接进口受挫，技术方面的引进也受限制，但是像真空、镜片等高端的技术我们可以分别向不同的国家进口，即使这些国家不愿出售相关技术，我们同样可以从其他竞争者手中购买得到。

就拿光刻技术来说，早前日本是最为先进的，ASML通过自身的努力才得以赶超，所以日本方面也掌握了一定的技术，而我国的厂商早已经与日本开始了合作，所以超过ASML也不是不可能。

所以说我们自研EUV光刻机还是有很大可能的，但是这需要一个过程，还需要逐渐地完善产业链条才能得以实现。

随着技术的不断突破，相信国产光刻机一定能迎来重大突破，届时国内科技企业将彻底摆脱受制于他人的尴尬处境，以华为为代表的科技企业也必将再次重回巅峰，引领时代潮流！

对于国产自研EUV光刻机，你们怎么看，欢迎留言、点赞、分享。