在芯片断供之后，华为的处境日益艰难，失去了高端芯片供应后，华为的高端手机就因缺乏重要元件而造不出来，智能手机业务开始断崖式下跌。在尝到了技术被卡脖子的苦水之后，国内市场也纷纷开始了加速自主造芯的进程。

但是由于芯片制造所用到的技术复杂，设备精密度较高，至今我国也未能实现自主生产。但一波未平一波又来，就在大家为芯片生产焦头烂额的时候，光刻胶方面也传来了坏消息。

日本效仿断供光刻胶？

近日，据媒体消息，日本的信越化学公司停止对中国的Krf光刻胶供应。就在我国努力实现芯片自主生产之际，日本也开始了落井下石、中断合作。

不少人都对日本的断供十分好奇背后的原因，来自他们的答复是：近段时间光刻胶的产能有限，为了平衡世界各大市场的发展需求，所以决定暂时中断中国市场的供应。

目前世界光刻胶市场中已经形成了美、日两分天下的局面，美日两家的产能已经基本上占了全球市场的87%，其中日本占相当大比例，达到了72%。由此可见，日本的光刻胶同ASML的光刻机一样，拥有垄断性的地位。

而我国在光刻胶方面同样有很大的欠缺，所以长期以来，跟芯片一样，高端光刻胶也是由日本进口。尽管我国的国产光刻胶自给率已经达到了5%，但是在高端光刻胶方面仍摆脱不了依赖他人的处境。

对于光刻胶的断供，尽管日方给出了“合理”的解释，但是其背后的深层次原因我们也不知道，因为就在前段时间，日方刚刚和台积电达成协议，邀请台积电到日本建厂，如果日本的光刻胶等材料产能不足，那台积电还会远道而来吗？

不过，不管背后的原因是什么，日本断供已即将成为事实，这对于我国来说确实十分不利，因为在芯片制造方面还没有实质性的突破的时候，造芯的材料供应却失去了供应，即使现在已经有了生产能力，但芯片还是生产不了。

所幸，也有好消息传来！

国产替代迎来高峰！

近日，来自南大光电的一则喜讯振奋人心。

南大光电公司主要是从事电子材料生产研发和制造的新技术公司，其技术支撑主要来源于南京大学的支撑。从2000年至今，该企业已经成立21年，目前已经建成了两条光刻胶生产线，正在完善其他配套产业链。

据悉，由南大光电控股的子公司宁波南大光电近期在光刻胶方面的研发有所突破，其自主研发的ArF光刻胶近日在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上再次认证通过，其实早在2020年底就已经通过了某些芯片制造企业的50nm闪存平台认证，也就是表明该公的光刻胶产品已符合55nm平台后段金属布线层的工艺要求。

尽管目前南大光电所突破的不过是55nm的工艺认证，但是已经代表着ArF光刻胶可以被广泛应用于5G芯片、AI芯片等高端芯片制造，随着对KrF、ArF光刻胶不断地深入研发，很快国产光刻胶将会上线生产，国产的替代将真正迎来高峰。

最后

不管出于何种原因，光刻胶的断供将会直接导致我国市场的紧张，对芯片制造业带来了一定阻力。

不过，事实或许将会像有些媒体说的那样：聪明反被聪明误！日本的断供对我们来讲或许是件好事，因为原有的市场份额已经空余出来，众多国内企业一定会抓住机会，找准突破口迎头赶上，从而满足市场需求，毕竟这是一块肥肉。到那时，即使日本再倒追着要给我们，我们都不会再要了，