总投资5.7亿元,彤程新材半导体光刻胶及高纯试剂项目开工

近日,上海彤程电子材料有限公司“半导体光刻胶及高纯试剂项目”已在上海化学工业区顺利开工,计划年内机械竣工。


总投资5.7亿元,彤程新材半导体光刻胶及高纯试剂项目开工

△Source:彤程新材


据悉,彤程新材将通过全资子公司上海彤程电子材料有限公司投资5.7亿元(建设投资)在上海化学工业区建设年产1.1万吨平板显示、半导体用光刻胶及2万吨相关配套试剂生产线;建设配套公用工程及辅助设施;新建检测实验楼等。


根据此前规划该项目总建设期12个月,2022年具备一定生产能力,2025年达产,经营期10年(含建设期)。


据彤程新材料集团股份有限公司总裁周建辉介绍,彤程电子将通过全面支持其子品牌科华微电子和北旭电子,加速光刻胶产品研发,并积极关注周边湿法电子化学品的投资机会,全面助力国家集成电路发展。未来,可形成年产1.1万吨半导体光刻胶及2万吨相关配套溶剂。


作为上海市“十四五”开局落地的首批重大216个产业项目之一,彤程电子聚焦制造业中的集成电路领域,在上海化工区新建半导体光刻胶及配套试剂项目,进一步推动光刻胶生产本土化。文:全球半导体观察整理;封面图源:彤程新材

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页面更新:2024-03-22

标签:光刻   试剂   半导体   湿法   上海市   用光   本土化   集成电路   材料有限公司   上海   年产   工业区   高纯   化学   项目

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