势如破竹，3大光刻机尖端技术传来捷报，国产DUV光刻机交付在即？

半导体行业的发展现在是这几年我国非常大的一个软肋，因为近几年芯片的需求量大增再加上华为在国际上的事件，造成了我国对半导体行业的加倍重视，其实我国现在的技术不是制作不出芯片，而是我国没有制作芯片需要的光刻机。光刻机现在全球只有一家公司可以有，那就是荷兰的ASML，这家公司在生产EUV光刻机的时候可以卖到15亿元的天价，即便这样的价格也都是争相抢购。不过现在我国的DUV光刻机接连3个尖端技术突破捷报，国产DUV光刻机交付在即。

ASML扮演组装角色，据相关部门介绍ASML取得了1000亿元的营业收入，而实现了净利润高达280亿元，净利率高达25%。在去年疫情的情况下，ASML全球卖出了258台光刻机，而一台EUV光刻机至少需要超过10万零部件，这些零部件都不是ASML自己研发制造的，全部由其他国家的厂家自己制作。

其实ASML光刻机的制作完全就是一个组装的角色，只不过组装起来难度非常大，不是所有的企业都可以做的。近两年国产芯片比较欠缺，虽然曾经与ASML预定了一台光刻机，但是至今没有给发货，即便是在这种情况下我国对于国产芯片的研发也是正在如火如荼地开展，在我国芯片领域实现了弯道超车，业内人士一致认为我国在光刻技术上可以带来质的飞跃。

3大捷报传来

①、上海广电所提出一种修正技术，这个基数具有非常高的几倍，可以基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学临近效应修正，在光刻机生产的7nm芯片上上海光机所通过OPC技术的软件方式，提高了光刻机的良品率，大大提升了我国对于光刻机技术上的发展。

②、上海微电子装备集团同时也实现了指定精度的垂向三自由度运动控制，这项技术在光刻机领域非常受用，尤其是作为高端的光刻机更是使用起来更加有益处。

③、上海理工大学光电学院制定精度的垂向三自由度运动控制，该技术与光刻机有着很大的关联，在PV值测量等核心指标及相关技术都已经达到了国际领先水平。搭载超高精度的测量仪器对光学元件进行参数测量，这一套数字化干预检测技术正是国产光刻机所需要的。

以上三大捷报都是我国关于国产光刻机领域重大的突破和进展，在这样的高速发展及技术超水平发挥的情况下，国产DUV光刻机已经离我们越来越近了。

因为华为事件现在很多国际上的半导体企业都与中国划清了界限，而且美国日前又成立了半导体联盟，里面有ASML、三星、苹果等等公司，唯独没有中国的企业，虽然此次联盟没有中国企业但是中国这两年在半导体行业的发展是非常迅速的，就连ASML现在都想与中国拉拢关系。

他们害怕中国一旦研发出光刻机会以比他们低的价格进入市场，到时候ASML垄断的光刻机市场将失控。但是ASML又在美国的半导体联盟里，美国的禁止令又不能不听，所以对于现在的ASML可谓是左右为难，既害怕自己失去市场，又害怕美国的禁令。

我国涌现出了许多的优秀光刻机企业，他们虽然现在都非常的努力研发，但是现在国产的光刻机还无法满足先进的芯片制作，为了能够让我国在芯片领域更快的占领地位，很多人都将希望寄托在了光刻技术上。以后我国在光刻机的研发及制作上将会采取集成工作的模式，国产光刻机光源供应商与整机单位共同完成28纳米国产光刻机，这样就可以在过程中发现问题及时解决。

随着中国不断在技术上的进展与突破，半导体产业链上的各企业协同发展，国产DUV光刻机已经离我们越来越近了。中国虽然起步比其他国家晚了一些，但是我们研发的步伐和科研的步伐从来没有放慢，甚至于弯道超车的方式及效果我们都已经想好，有朝一日国产DUV光刻机将会出现在市场上，而且国产光刻机还会走向全球各地。