真空蒸发镀膜设备需要测量的技术参数有哪些

真空蒸发镀膜设备是一种采用热蒸发沉积工艺的镀膜设备，使诸如Cu、Ag、Au之类的金属或诸如SiO₂之类的其他材料的薄层沉积在基材上。蒸镀也可以用于半导体基材的膜层镀制，还用于太阳能电池的生产等用处。蒸镀就似溅镀一般，都属于PVD（物理气相沉积）镀膜技术。

振华车灯蒸发镀膜设备

针对于极限压力在7*10⁻³Pa~7*10⁻⁴P的真空范围内的蒸镀设备，有几项基本的技术参数需要我们测量：

1、镀膜真空室极限压力以及镀膜室抽气时间，我们此前已经有相关文章介绍过，这里便不做多说。

2、升压率

（1）测试条件：与极限压力的测定条件相同。

（2）测试方法：将设备抽至镀膜室内达到稳定的极限压力之后，在允许除气的情况下，再抽4h，将连接镀膜室与真空机组的真空阀关闭，等镀膜室的压力上升至P₁（1Pa）时，开始计时，经30min后记录压力为P₂，然后按下式计算升压率：

R=（P₂-P₁）/t

R：镀膜室的升压率[单位：Pa/h]；

P₁：镀膜室的初始压力[单位：Pa]；

P₂：镀膜室的终止压力[单位：Pa]；

t：压力由初始压力升到终止压力所需时间[单位：h]。

3、电阻蒸发器通电试验

清洁镀膜室之后，将蒸镀材料与电阻蒸发器装放好，再将镀膜室抽至低于工作压力的真空环境，然后将蒸发电源接通，开始逐渐加热，每个蒸发器加热器应在50A~130A的电流及4V~20V的电压环境下正常工作，此时蒸发器为白炽状态。结束蒸发后，蒸发器上装放的蒸镀材料要被完全蒸发掉。

4、烘烤装置内有效加热区的加热均匀度

先把真空室用真空泵组抽至工作压力的环境，再将烘烤装置的电源接通，在温度达到最高烘烤温度的情况下，保持十分钟左右的时间，然后在基材与烘烤机构之间的距基材表面约一厘米处的有效加热区之内，用热电偶（传感器）测量3~5点的温度，这几点测量的温度需要能将最大的温差反映出来，几点温度要同时测量，最后就可以算出各测量点温度与平均温度的最大相对偏差，得出加热均匀度。

真空蒸发镀膜设备与大多数其他PVD工艺相似，热蒸发镀膜也是一种高真空的工艺，根据不同的蒸发材料和所需膜层的不同性能，广东振华可提供不同蒸发源，例如线性、喷射或是特殊的蒸发器，可实现极高的镀膜速率。