2020年半导体薄膜沉积设备行业现状分析，国产替代空间广阔「图」

一、半导体薄膜沉积设备行业概述

薄膜沉积是一连串涉及原子的吸附，吸附原子在表面扩散及在适当的位置下聚结，以渐渐形成薄膜并成长的过程，是半导体器件制造过程中的一个重要环节。根据工作原理不同，薄膜沉积工艺可分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）三大类。

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二、全球半导体设备行业现状

晶圆制造是半导体设备价值量最高的环节，而晶圆制造设备从类别上可分为光刻设备、刻蚀设备、薄膜沉积设备、离子掺杂等十多类。按销售金额来看，在2019年全球晶圆制造设备市场结构中，光刻、刻蚀、薄膜沉积设备占比最高，分别为25%、24%和21%。

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近年来，全球半导体设备市场规模呈波动上升态势，2020年全球市场规模达711.9亿美元，同比增长19.15%。预计到2022年将突破千亿美元。

资料来源：SEMI，华经产业研究院整理

相关报告：华经产业研究院发布的《2021-2026年中国薄膜沉积设备行业投资分析及发展战略咨询报告》

三、半导体薄膜沉积设备行业现状

在半导体行业下游需求增长以及技术变革的推动下，全球薄膜沉积设备市场规模保持稳定增长。数据显示，2017至2020年，全球半导体薄膜沉积设备市场规模从125亿美元增长至172亿美元，预计到2025年将达340亿美元左右。

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根据中国国际招标网数据显示，在2020年我国薄膜沉积设备存有量中，进口设备约占98%，而国产设备仅占2%。目前薄膜沉积设备仍以海外进口设备为主，国产替代空间广阔。

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四、半导体薄膜沉积设备行业竞争格局

全球半导体薄膜沉积设备市场高度集中，目前呈国外供应商寡头垄断格局。国内沈阳拓荆、北方华创领先。分类型来看，2019年半导体薄膜沉积设备中CVD设备应用最广，占比超一半，为57%；其次是PVD，占比为25%；ALD及其他镀膜设备占比18%。

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薄膜沉积设备具有较高的技术门槛，行业龙头企业通过多年的技术积累和规模效应，已经建立了较高的行业壁垒。国际薄膜沉积设备市场中，主要有应用材料、泛林半导体、TEL等厂商。在国内市场中，主要企业有北方华创和沈阳拓荆，其中北方华创覆盖了CVD、ALD、PVD三大产品线，而沈阳拓荆主攻CVD和ALD，北方华创与沈阳拓荆技术节点都达到了14/28nm。

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