国产光刻机造出来了吗？什么水平？专家：180nm工艺试用阶段

在半导体领域中，芯片的地位可以说是牵一发而动全身，一个没有"大脑"的产品，什么功能都实现不了。芯片太重要了，自然而然成为兵家必争之地。而在这一赛道上一路领先的美国掌握了话语权，拥有对全球半导体市场的生杀大权。最典型的例子莫过于华为，9月15日之后，美国升级了断供规则，直接让华为无芯可用，因为华为有设计芯片的能力，却无法大规模生产。

很多人寄希望于国内的芯片制造商，华为被人家欺负成这样，自己人怎么能置之不理呢？实际上，不管是台积电还是中芯国际，生产设备中都含有一定比例的美国技术，一旦美国动起真格，它们也只能爱莫能助。

国产芯片制造主要卡在一个环节上——良品率，毕竟芯片需求都是以百万计，残次品占比提高零点几个百分比，都是一笔非常可观的损失。目前，提高良品率最行之有效的是ASML的EUV光刻机，遗憾的是，它们家的光刻机有部分技术源自美国，受美国实体清单的影响，根本没法卖给中国。

有人说干脆咱自己造！这句话没毛病，新中国刚成立那会儿，一没技术二没资金，不就是一步一个脚印干出"两弹一星"、"北斗系统"等项目吗？实际上，早在2008年，国家就启动了扶持芯片设备的项目，计划连续投资十年。那么目前国产光刻机出来了吗？它又是什么水平？一位半导体产业专家坦言，目前国内能造出180nm制程的光刻机，目前尚处于试用阶段！

按照制程，光刻机工艺可以分为180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等，在这领域一路领先的ASML已经造出5nm制程的光刻机，也就是说，国产光刻机落后全球至少5代左右。

好消息是，国内半导体领域巨头华为也将布局芯片制造，据外媒报道，华为将厂址选在了上海，并将在明年争取实现45nm芯片量产。这是一个积极的信号，国产光刻机进展一定不会太快，但至少是一步一步在往前走。相信国产半导体拧成一股绳，一颗100%的中国芯指日可待！