光刻机是在半导体领域必不可少的设备，无论生产制造什么样的芯片，都脱离不了光刻机，如果说航空发动机代表了人类科技领域发展的顶级水平，那么光刻机则是半导体工业界最为耀眼的明珠，其具有技术难度最高、单台成本最大、决定集成密度等特点。

关于国产光刻机，长春光机所传来好消息

光刻机市场一直被国外把持着，尤其是在高端EUV光刻机领域，全世界也只有荷兰ASML这一家企业能造出EUV光刻机。所以ASML自然而然垄断了EUV光刻机全部的市场份额。

但半导体行业覆盖广泛，并不一定都需要EUV光刻机来生产芯片。换句话说，在中低端范畴的领域，用成熟工艺制程的光刻机产品就能完成行业发展。在这方面，国产光刻机其实是有能力参与的，ASML未必能做到一家独大。

在国产企业，科研机构不懈的努力下，关于国产光刻机又一次取得了技术突破。根据报道，长春光机所传来好消息，完成了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术的突破。

对于这项技术的突破，了解的人或许会知道，物镜系统是光刻机的核心四大件之一，其余的还包括光源系统、控制软件、双工件台。

相对应的是，光源系统有北京科益虹源在参与布局，北京华卓精科也是业内领先的双工件台厂商，占据中国光刻机双工件台最主要的市场份额。

现如今再加上长春光机所完成的物镜系统领域的技术突破，可以说光刻机的四大件都在部署科研力量。等完成一系列的技术攻克，实现光刻机其余大大小小的零部件制造生产，相信国产光刻机的自主化程度会大大提升。

光刻机领域另辟蹊径

一直以来，光刻机都是我们最大的短板，在全球领域中，我们在光刻机方面的突破几乎是微乎其微的，想要生产出28纳米以下的芯片，就必须要用到阿斯麦的高端光刻机。尤其是7纳米以及7纳米以下的光刻机，必须要使用阿斯麦所生产的EUV光刻机。

其实早在上世纪90年代上海微电子就已经着手的光刻机的研发制造了，甚至当时还专门跑到欧洲荷兰的ASML去考察人家的先进模式，但是没想到遭到了ASML工程师的嘲讽，说就算是把图纸完完全全的给到我们中国，我们也根本没有办法也不可能制造出来。

上海微电子奋发图强潜心钻研，虽然芯片制造的生产线还达不到目前最好的7nm和5nm工艺，但是也已经具备了生产14nm和28nm芯片的能力，预计明年就能够实现28nm芯片生产线的下线，虽然距离顶尖的技术还有很大差距，但进步还是很快的。

另外中芯国际更是另辟蹊径，一直在钻研的“N+1“芯片技术，完全不依赖于EUV（极深紫外线）光刻机，用中低端段的DUV光刻机就可以制造出来。而今年也迎来了完美流片一次性通过测试的好消息。

也正是由于中芯国际的技术突破，中科院现在也已经下场全院主力研发非EUV光刻机的制造核心技术，传闻目前中国和佳能、尼康正在紧密合作，相信也一定能有极大的突破。

而就在此时，ASML急切表态，DUV光刻机不受限制能直接卖给中国，并且还要在明年加大对于我国市场的投入力度，其实就是很担心我国一旦非EUV光刻机在和日企联手下取得突破，那么ASML不仅仅在我国，甚至在全世界的营收都会受到极大的影响。但同时，美国又将其中六项核心技术纳入实体清单，做了拦路虎，不管是美国与ASML唱双簧，还是ASML真心想给中国卖人情，都不重要了，重要的是不抱有幻想，实实在在的把核心技术掌握在自己手中，中国半导体行业一定能走出一条光明大道。