关于EUV光刻机，央视传来新消息

纵观这两年国内的半导体产业，虽然随着扶持力度的增强，取得了一些明显的进步，但是与国外顶尖水平相比，依然还有一定的差距。而这些差距主要就在于芯片制造方面，由于关键设备和材料的缺失，导致国内直到现在都无法造出先进的芯片产品。

大家都知道，一颗芯片的诞生，需要经历设计、生产和封测三个环节，每一个过程都是必不可少的。其中在芯片设计和封测方面，国内的技术实力并不输于国外，像被美国针对的华为海思，就是国内乃至全球顶尖的芯片设计巨头，近几年表现非常出色。

但是在最为关键的芯片生产环节，国内却始终未能取得较大的进展，这么多年来一直依赖国外的供应商。就拿华为来说，海思能够设计出7nm和5nm等高端制程的芯片，然而却无法完成量产，必须与代工厂建立合作，这就相当于给了美国可乘之机。

那么国内为什么无法攻克芯片制造这项核心技术呢？难道说国产半导体公司真的没那个能力？其实不然，华为任正非曾经说过，现在最主要的问题，就是海思设计出来的先进芯片，以国内的基础工业水平根本造不出来，这才是国产芯片的最大短板。

而谈及芯片制造过程中需要用到的核心设备，就不得不让人联想到光刻机，作为半导体行业最尖端的组成部分，光刻机决定了一个芯片厂商的上限。尤其是目前最高端的EUV光刻机，7nm和5nm等先进芯片的生产过程都离不开它，其重要性显而易见。

从某种程度上来说，国内之所以造不出高端芯片，就是因为没有EUV光刻机，如今国产半导体公司连一台EUV光刻机都不曾拥有。考虑到这方面的缺陷，国内也开始自主研发光刻机技术，虽然这项设备非常难，但是国内从来都没有想过放弃或是妥协。

正所谓功夫不负有心人，就在近日，关于EUV光刻机，央视传来新消息，国内攻克了其中一项核心技术。光刻机主要由三个部分组成，分别是工作台、光学镜头和光源技术，此次国内突破的就是光源，为EUV光刻机的自主化生产打下了坚实的基础。

具体来看，近期据央视报道称，国内首台高能同步辐射光源设备，已经进入了安装阶段，并且与之相匹配的光源平台，也开始进行试运行。这标志着国内建成了全球亮度最高的第四代光源设备，有望用于多个技术领域，EUV光刻机也包括在内。

光源技术看似不是很难，但是对精度和能量的要求异常苛刻，之前国内一直找不到突破的机会，现在终于迎来了新的进展。不出意外的话，将来这项技术将会被用于EUV光刻机上，到时候国内离自主生产EUV光刻机就更近了一步！

ASML也没料到一切来得如此之快

值得一提的是，对于央视传来的新消息，ASML没料到，一切来得如此之快。作为全球最顶尖的光刻机巨头，ASML也是当前唯一能造出EUV光刻机的厂商。但是以后就说不定了，因为我们国内已经完成了技术突破，ASML将迎来一个强有力的对手。

事实上，最近这段时间，ASML一直在向国内示好，而且第一季度还出口了11台DUV光刻机。但是不管怎么样，ASML的EUV光刻机还是会受到美国的管制，既然国内买不到，那么就只能自主研发了，到时候ASML要怪就去怪美国，谁让它制定所谓的规则呢？

写在最后

综上所述，目前看来，关于EUV光刻机，国内已经传来了一些好消息，除了上述的光源设备之外，还有清华大学的EUV光学系统以及华卓精科的双工作台等等。有了这些核心技术的支持，相信要不了多久，国内就能造出EUV光刻机。

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