国内芯片制造产业的进步

随着华为芯片事件的持续发酵，国内所有半导体公司都意识到了自主研发技术的必要性，尤其是在芯片制造领域，国内更是需要摆脱对国外供应商的依赖。因为华为芯片之所以会受到美国的管制，就是源自于海思只有芯片设计能力，无法单独完成量产过程。

在芯片产业必不可少的三个环节中，国内的设计和封测水平都位居世界前列，与国外巨头相比也不落于下风。唯独在芯片生产方面，这么多年来国内始终未能取得较大的进展，时至今日还是造不出先进制程的芯片，这便是美国能对国内“卡脖子”的主要原因。

就拿中芯国际这家国内大陆最大的芯片代工厂来说，目前它的工艺技术停留在7nm阶段，但是还没有真正实现量产。反观其竞争对手台积电和三星，早在去年下半年就掌握了量产5nm芯片的能力，如今更是在全面布局3nm制程，差距显而易见。

为了改善这种局面，从去年年底开始，国内就再一次加大了对芯片制造产业的重视力度，并且投入了大量的资金，来支持国产半导体公司的研发工作。而前段时间，有外媒报道称，截至到2021年年底，全球范围内会新增29座晶圆厂，其中有16座都在国内。

晶圆厂就是生产芯片的地方，一下子多出了16座晶圆厂，对于国内而言，无疑是一个非常好的消息，能够进一步提升国产芯片的制造能力。具体来看，这16座晶圆厂，有8座在大陆地区，另外8座位于台湾省，建成之后将为国内提供很大的帮助。

可能很多人会想，就算国内晶圆厂的数量增加了，如果还是不能攻克芯片制造方面的技术和设备，那也没有什么用。这种说法确实很有道理，但不可否认的是，这16座晶圆厂肯定能够为国产芯片带来更多的机遇，也反映出了半导体市场对国内的看好。

EUV光刻机也传来好消息

除此之外，在16座晶圆厂之后，EUV光刻机也传来好消息，国内的中科院、清华大学和华卓精科等公司或机构，都取得了一些突破。EUV光刻机作为当前最先进的光刻机，能够满足7nm和5nm等先进芯片的生产要求，之前全球范围内只有ASML能造出来。

但是现在情况不一样了，就算没有ASML的支持，国内对EUV光刻机的研发，也迎来了明显的进展。首先就是中科院打造的高能同步辐射光源，可以为EUV光刻机提供亮度和能量都非常高的光源设备，以便在芯片制造过程中实现更高的精度。

其次是前段时间清华大学攻克的EUV光源波长及频段方面的问题，在相关研究团队的指导下， 国内已经找到了最适合的EUV光源。最后就是华卓精科自主研发的双工作台，它同样是EUV光刻机最核心的组成部分，国内在这方面已经有所突破。

由此不难看出，虽然ASML曾经公开表示，即便是开放EUV光刻机的图纸，其它公司或国家也造不出来，但是如今来看，不用ASML，我们国内完全可以自主攻克EUV光刻机。等到国产EUV光刻机正式亮相的那一天，ASML就会彻底失去领先的地位。

美国没料到是这局面

值得一提的是，对于上述的这些关于国产芯片和光刻机的好消息，美国也没料到是这局面。本以为在芯片规则下达并生效后，我们国内的半导体产业会停滞不前，但让美国没想到的是，现在国产芯片依旧在不断地进步，规则带来的压力也转变成了动力。

这很好地印证了比尔盖茨的预言：美国不卖芯片给中国， 只会加速中国芯的崛起，不会带来任何好的结果。相信要不了多久，在美国的“鞭策”下，国产芯片一定能取得更大的突破，到时候国内就可以完全摆脱国外供应商，实现全面的技术自主化了。

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