中芯可以“翻身”了？ASML态度明确之下，台积电给出了选择

近日，台湾集成电路制造股份有限公司（简称“台积电”）技术高层林本坚公开表示，即便没有采用极紫外光刻（EUV）设备，他们仍能大量生产7纳米级芯片。

同时，中国集成电路晶圆代工龙头企业——深圳市中芯国际公司同样具备生产5纳米级芯片能力，这引起了社会对高端光刻机是否存在必要性的争议与讨论。

面对当前中国芯片产业与世界领先水平之间存在的差距，业内人士表态坚持平稳发展可能更为适宜。

据了解，中国自上世纪90年代起通过引进外资和技术，逐步实现了集成电路制造的本土化，并取得了长足进步。

然而，与全球领军者如三星电子株式会社、台积电等相比，在先进制程技术掌握及率先实现大规模量产的道路上，我们还需进一步努力。

这其中的主要阻碍因素在于我国尚未能够独立研制此类高端光刻机设备，同时受到EUV设备进口的种种限制。

近年来，随着中芯国际等国内企业的崛起，他们积极开展先进制程芯片的研发与量产，这无疑为解决我国“缺芯少屏”难题提供了重要保障。

然而，在追踪和超越世界领先水平的过程中，我们也应审慎对待每一次突破与尝试。

多少出于现实的考虑，人们对于高端光刻机是否真的必要诞生了分歧和讨论。

台积电高管林本坚在一场技术论坛上承认，他们在不采用EUV设备的前提下，能够大量生产7纳米级别的芯片；此外，他们也确信利用深紫外线光刻（DUV）设备制造5纳米级别的芯片也是切实可行的。

中芯国际公司当前亦具备此项实力。

如此看来，一旦阿斯麦尔半导体（ASML）表明其愿意出货较老型号的DUV光刻机，中芯就不必过于依赖于EUV光刻机。

然而，针对这一说法，业内分析人士指出，尽管DUV光刻机确实无需EUV设备也可助推接近5纳米的制程生产，但需要复杂且昂贵的多层曝光技术进行辅助，在生产过程中的品质保障及高额成本不易控制。

此外，即便在不得已的状况下采用这种方式，结果也是难以预知的。

不仅因为生产效率可能受挫，而且缺乏足够的市场需求也将使生产出的产品可能面临无人问津的境地。

参考中外诸多知名厂商的经验，如三星电子株式会社去年年底就表示因EUV光刻设备数量有限，优先选择将此资源投入到利润更高的5纳米芯片制造中。

显然，对于这样的费用高昂且挑战重重的生产方式，置于优先级考虑之外显然更为现实。

综上所述，业内专家普遍认为，尽管高端光刻机的确对保持领先地位至关重要，但实际在研发和使用中遇到的种种实际问题不能忽视。

况且，现今DUV光刻机虽然已经可以自由进出口，但是该技术并非我国拥有的核心科技，未来或许也可能面临类似EUV光刻机的限制。

在这种背景下，中国集成电路企业坚持稳健、有序的发展模式，持续提高自身综合竞争实力，或许才是真正符合长期战略利益的选择。

如今台积电高管林本坚的表态能否让我们看到我国自主研发高端光刻机现实可能性的曙光？我们期待更多权威声音的出现，以厘清这一重要议题的脉络，从而避免盲目追求潮流，理性前行，为推动我国集成电路产业健康、稳定发展作出更大贡献。