荷兰落地协议后，中国光刻机迎来好消息，外媒：中国芯尘埃落定了

近年来，光刻机技术一直备受关注，因为它是制造芯片的核心设备。随着科技的发展，芯片在各个领域应用广泛，成为现代社会不可或缺的一部分。

然而，由于美资本主义掌握了绝大部分半导体技术，中国芯片发展处处受限，不得不走上长期自主研发的道路，如今局面改变，外媒纷纷评论称：中国芯尘埃落定了！

芯片技术的掌握对于一个国家的科技实力至关重要，光刻机的性能决定了芯片的工艺水准，制程水准的提高能够使芯片表现更优异，功耗更低，成本更低。

因此，对于中国来说，拥有先进的光刻机技术非常关键，然而在全球光刻机市场上，阿斯麦与尼康一直垄断着大量光刻机份额，更重要的是EUV光刻机技术超过30%被老美占据。

遗憾的是中国芯片制造业一直受制于人，对进口技术与设备供应高度依赖，而美国政府一直存在遏华态度，掌握着光刻机的出口控制和限制。

因此，给中国芯片制造业带来了巨大的压力和挑战，为了突破技术瓶颈，中国政府和芯片行业采取了一系列积极的策略。

由于忌惮，拜登团队的开始对中国进口光刻机的渠道持续压缩，如今更是拉拢ASML和尼康等企业建立新遏华协议，试图将中国芯片的自产能力压缩到45nm以下。

时隔几个月时间，日企官宣协议落地时间，将于2023年7月23日向大陆断供23种半导体生态设备，包括两款DUV光刻机！

如今荷兰也正式宣布落地协议，于6月30日或者7月初执行断供措施，可以预见的是中国半导体产业链经历这场风波之后，面临着更加苛刻的处境局面。

不过就在荷兰落地协议之后，中国光刻机自研的企业、机构迎来了好消息，逐渐有着突破美技术枷锁的趋势。

据魅族前高管李楠公开表示：中国芯片产业链在未来12个月时间里，将会完成国产化7nm制程芯片全流程生产线，其中不包括任何美技术，完全达到“去美化”！

显然，虽说我们在进口芯片设备上面临更加严峻的环境，但国产光刻机的研发从未停止，并且已经有着可观的突破。

上海微电子时隔三年时间，终于打造出了精度达到28nm制程的国产光刻机，意味着中国芯对ASML和尼康的“依赖症”正在大规模下滑。

相比于此，更重要的还是先进领域的突破，此前哈工大与中科院已经掌握了EUV光刻机的三大核心技术，而如今已经打造出了第一代试验“原型机”。

虽说原型机的调试、EUV光刻机生态链的建设还需要一段时间，但如今的局面无疑是为中国半导体发展“撕开”了美技术封锁的一条“生路”！

不仅如此，ASML将会在大陆上扩产，预计追加招聘200个高技术岗位，全部向大陆市场招募人才，培养更多的工程师、技术人员。

自研、合作都将有效促进光刻机国产化、自主化，意味着中国芯迎来自给自足的未来，已经不再遥不可及了！

除了传统硅基芯片之外，我国在量子芯片、光子芯片等领域也已经开始赶超西方国家，尤其是不久前还突破了光子计算芯片，正是打开了光子芯片各领域可以投入使用的大门。

而这些都是可以直接绕开光刻机的存在，通过持续的努力和创新，相信中国芯片制造业一定能够迎来更加光明的未来。

正如外媒的评论，中国芯尘埃落定的时刻正在逼近，相信在不久的将来，中国的芯片技术将迎来飞跃，中国芯片制造业的地位也将得到提升。

让我们期待中国芯片行业的辉煌时刻！那么大家对此怎么看？欢迎评论区留言！