EUV光刻机，ASML即便有意卖给我们，结果也一定是望梅止不了渴

关于EUV光刻机，最近又热闹起来了。

特别是近日外媒再次爆出美国继续使坏，坚决要尽一切手段阻止EUV光刻机被卖给中国的事。但是全球光刻机的绝对垄断者，荷兰ASML（阿斯麦）却仍在无力地发声，反对美国的恶行，当然结果还是一如既往，反正就是拿不到荷兰政府卖EUV光刻机给中国的许可证。

本来还有人很傻、很天真，指望拜登上台后对中国好一些，结果确实狠狠被打了脸。透露消息的美国官员称，拜登不但延续其前任特朗普的政策，甚至还在加码，专门派出高官去荷兰施压。在阻止中国采购荷兰ASML的EUV光刻机问题上，美国哪个政府、哪个总统都不会良心发现的，只能是一个更比一个毒。

美国政府使坏的借口，仍是老套的所谓的“维护国家安全”，当然荷兰政府是不可能扛住压力、违背美国主子旨意的。可以确定的是，中国根本就别指望能从西方买到先进的EUV光刻机。

近几个月，阿斯麦CEO温宁克已多次发声，对美国政府、荷兰政府的恶行表示反对。他公开表示西方限制中国的进口，将加速中国芯片产业实现独立自主，这会对欧洲半导体产业造成严重伤害。注意，温宁克可是站在他们自己的利益角度说话的，中国巨大的市场，现在卖，可以赚大钱，将来这个市场没了，可就只有后悔了。

阿斯麦的这位CEO还认为未来十五年的时间内，中国就能够凭借自己的努力崛起，而欧洲供应商会永远失去中国市场。其实这个预测，我觉得还是很保守的，用得了15年吗？对中国来说，可等不了15年。3年、5年，都是漫长的。但以我们的魄力和工业基础，三、五年解决大部分的短板，实现基本自主、基本够用，完全有可能。

用于制造7nm、5nm及更先进制程工艺的EUV光刻机，现在全球就ASML独家这一份。而且其采用、整合了全球顶级供应链技术，短期内中国确实难以赶超。但是既然外采这条路注定走不通，我们就只剩下华山一条道，自己造了。最近中国在离子注入设备、EUV光源、先进光刻胶、刻蚀机、尖端清洗设备等很多方面的技术上，都取得了很大进展。

按照原来的预计，上海微电子将在今年推出28nm制程工艺的光刻机。尽管还没有正式消息确认，但有消息称今明年我们将搞定28nm，甚至14nm的光刻机。如果配套的光刻胶及其它设备也能基本同步，到明年年底，中国将完全具备可独立自主满足我们80%以上芯片需求的技术。

尽管离能拿出我们自己的EUV光刻机，实现7nm、5nm甚至更先进的3nm制程工艺芯片制造，还有相当大的距离，但是实现14nm以上制程工艺的芯片自主制造，就可以消除可能的整个行业震荡的巨大风险。

荷兰ASML公布的2021年一季度业绩显示，实现营收43.64亿欧元，同比增长79%，毛利率达到53.9%，净利润13.31亿欧元。ASML一季度售出的73台新光刻机系统，其中就有交付给中国的10多台DUV光刻机。这可能就是瞄着中国即将自产的同档次DUV光刻机，再不卖，可能就不用买他们的了。