界读丨中芯国际将大规模量产7nm工艺？28nm光刻机也传来好消息

欧界报道：

近日，中芯国际方面对外透露称其已经攻克了7nm工艺，并且进入了风险试产阶段，有望在6月份实现规模量产。中芯国际的这项新突破对中国半导体行业而言又是一次新的进步，这意味着我国离芯片自主化更近了一步。

不过，值得一提的是此次中芯国际试产7nm工艺依靠的并不是全球最先进的EUV光刻机，而是DUV光刻机。目前我国半导体行业还缺乏专业的EUV光刻机设备，而这也是我国一直难以突破先进工艺的原因。使用DUV光刻机量产7nm芯片虽然在性能和良品率上会大打折扣，但这对于中国芯片领域而言依旧是一次巨大的突破，这一点是值得肯定的。

今年3月初，中芯国际官宣同荷兰光刻机巨头ASML签订了一份价值12亿美元（约合77亿人民币）的光刻机采购订单，订单上的光刻机设备均是DUV光刻机设备。此次采购在一定程度上解决了中芯国际半导体设备紧缺的难题，对其接下来的发展是相当有利的。

当然，这次中芯国际能成功突破7nm工艺还得益于国产光刻机的发展。据业内相关人士透露，国产光刻机巨头上海微电子将在不久后交付一台28nm工艺的沉浸式光刻机，值得一提的是，在经过多重曝光后发现这台光刻机不仅可以生产28nm工艺，还达到了7nm工艺级别。

28nm光刻机的面世无疑将大大提升国产半导体产业链的工艺水准，对于国产芯的发展具有重要的推动作用。

我国在高端芯片方面一直被卡脖子，最主要的原因就是缺少先进的光刻机设备，事实上我国的芯片设计能力是很强的，由华为海思设计的麒麟系列芯片已经达到了国际顶尖水平，只是因为缺乏专业的EUV光刻机，麒麟芯片只能交由台积电代工。

不过，如今国产光刻机已经传来好消息了，相信国产企业的不断突破，我国的芯片产业还将取得一个更大的突破，实现芯片自给自足指日可待！

我国半导体行业曾定下到2025年实现70%芯片自给率的目标，而这一目标的实现正依赖于中芯国际7nm工艺的量产以及28nm工艺光刻机的发展。

总的来说，经过不断的努力，国产芯已经取得了很大的突破，目前中芯国际的14nm工艺也基本追上台积电，等7nm工艺实现量产后，中芯国际在半导体领域的地位无疑将进一步提升。总之，国产芯片的发展前景是一片光明的！

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