一一发明专利,通常带有超前的概念、设计、思想,却常常用大众化能理解的语言描述。希望这个13.5纳米EUV光刻机专利的系列解读,可以为大家带来或新鲜的、或有趣的、或深刻的科技知识。
今天要讲的是2015年中芯国际发表的一篇EUV光源设计的专利:
CN106324997B 伍强 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
Priority 2015-06-26 • Filed 2015-06-26 • Granted 2018-03-30 • Published 2018-03-30
中芯国际2015年发表的这篇专利提供了一种全新的EUV光源设计。那么他是要解决什么问题呢?
原来,在早期中芯国际研究EUV光刻机时,EUV的功率还没有达到50W,因此亟需先进的提升EUV功率的方案。
彼时ASML产生EUV光源的方式是LPP(激光产生等离子体辐射方式(Laser Produced Plasma),该方式的原理是: 激光源产生激光束轰击锡(Sn)液滴,由此激发等 离子体,等离子向外辐射极紫外光。
这个工艺的核心是产生超高频的锡(Sn)液滴。这种工艺是极其复杂的,国内也仅有华中科技大学等极少单位从事这个技术的研究。达到这种超高频的液滴对喷嘴设计、工作时间等都有很大的难度。
中芯国际认为:LPP都只有1个固定的激光源去轰击1个液滴喷射线,制约了功率提升!(图3)
由于固定激光+固定液滴线方案限制了功率,中芯国际提出了一个脑洞大开的想法(图4):
1个打不过,我就上n个(大家可以想象一下“六脉神剑”,1个人学不会6脉,咱们就给他来6个人的剑阵,1人1脉转着圈打)。
所以,大家就可以清晰地理解中芯国际的这个设计了:
在EUV的激光头周围,安装了一圈的n个喷嘴,工作时,转盘按照激光脉冲的频率一直转动,激光依次激发1至n的喷嘴喷出来的液滴!
所以,这是一个以空间换取时间的故事!
科学创新有的时候就是一次脑洞大开,朋友们get到中芯的这个专利设计思想了吗?
https://achelois.shuu.cf/extdomains/patentimages.storage.googleapis.com/4b/ca/d9/142fc51cf4b260/CN106324997B.pdf
页面更新:2024-05-15
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