美国失策了？中国光刻机领域取得重大进展，成功研发光镜镀膜设备

去年华为的芯片问题，一直闹得沸沸扬扬。美国在芯片领域，对我国实行制裁，从这场中美的芯片之争中，我们认识到了，缺少芯片的核心技术是非常危险的，一旦别国停止对我们的出口，我国的一个产业就会出现问题，这对我国产业链发展的有重大影响。

现在常用的14纳米芯片的制造离不开EUV光刻机，但是我国之前一直没有制造出来，但是我国一直在进行在探索光刻机的制造。曾经美国说过，即使把光刻机的图纸给中国，中国也不可能制造出EUV光刻机，这让我国民众感到非常的耻辱。

现在我国制造光刻机的核心技术又有了质的突破，听闻这一消息之后，业内人士都非常激动，那么这一个关键技术是什么呢？为何让国内外的学者都如此惊叹呢？

在以往长达几十年多的时间之中，我国上海微电子自主研发的光刻机只能生产28 NM芯片。这与时下最顶尖的 EUV光刻机的生产存在着巨大的差距，世界上最强大的光刻机制造公司是荷兰的asml公司，它几乎垄断了整个高端的光刻机市场。

但是这家公司的光刻机只提供给台积电，三星和英特尔等公司，而由于美国对中国的制裁，所以荷兰的asml公司不愿意向中国出售高端的EUV光刻机，导致我国无法量产7nm和5nm的芯片。

不过近日，我国国内传来喜讯，中国光刻机的最后一块版图获得新成就，中国光刻机光源问题得到解决，并且首台光镜镀膜设备也开始投入使用。

光刻机的内部零件有10万颗之多，光刻机的核心技术是光源技术问题。这些技术都被美国和德国所垄断，光刻机巨头阿斯曼的光刻机技术，甚至有90%都是从国外进口的，并且其中的光源技术20%，是源于美国进口，所以当时美国对中国禁售芯片之后，阿斯曼也无法向中国出售光刻机，因为美国规定包含其技术的产品要经过美国同意才可以出售给中国。

不过技术打压也会倒逼技术攻关，我国在这样的压力之下也选择进行自主研发，虽然一路走来比较困难，但是现在的光源问题也得到了解决。

EUV光源确实是一个非常棘手的难题，中科院的专家一直在负责研究这一领域的问题。EUV光源也就是高能同步辐射光源是我国重点建设的基础科研项目之一，这个项目是由中科院高能物理研究所所承接的。在这个设备建设完成后，我国将会拥有全球亮度最高的第4代光源之一，这将会为我国的科研领域提供更多的支持创造更多的新技术，也将为EUV光刻机的光源技术提供保障。

它的研制终于在20 21年6月28日有了成果，并且已经投入辐射光源全产业化的运用，并且之后这一技术也会运用到光刻机的使用之中。

这对我们来说是意义非常重大的，这一台国产设备的出现，让我国的芯片制造领域的压力也减小了很多，也是为我国未来芯片完全实现自主研发提供了一个重要的基础。

除此之外还有EVU光学镜头和双工作台EUV光刻镜头的制成工艺问题，这也是很难解决的问题。目前，50皮米以内是光刻机的光洁度要求，这对技术的要求是非常高的，世界上现在只有一家可以达到其要求的公司，也就是可以生产EUV光刻机镜头的德国蔡司公司，即使在这一家公司之中，也只有20多名工程师是可以真正进行制造的。

不过我国中科科美也研制成功了直线式的劳埃透镜镀膜装置和纳米聚焦镜镀膜装置，目前都已投入正式使用，现在我国生产的真空镀膜设备也非常先进，光洁度可以控制100皮米以内，距离真正的目标也越来越近了。

现在我国在这一领域的发展越来越先进了，细节零部件、整套系统的运行都实现了中国国产，这对不久之前我国核心技术还一直依赖国外的情况来说，是非常难得的，所以这是我国在这一领域上一次崭新的突破。

之前国产芯片落后，时至今日我国仍然没有EUV光刻机，但是这对芯片技术的研发和各种半导体设备都是非常重要的，因为没有半导体设备的支持，导致我国在芯片研究方面存在许多的短板，所以我国在一些高精尖科技产品的厂商，只能当西方国家的制造者，将高精尖产品制作出来，绝大多数的利润都被西方国家拿走了，之前我国在高端设备生产方面并没有太多的话语权。

这些年来，国家对半导体行业越来越重视，我国很多的厂商也在半导体上获得了很多的突破，相信我们国家距离芯片的自主化生产越来越近了，希望我们国家的半导体行业能够发展得越来越好，不受西方国家半导体核心技术的限制。

现在我国自主研发的光学镀膜设备处在世界前列，并且我国的第4代辐射光源技术也实现了突破，相信我国在EUV光刻机技术方面的发展也会越来越好，将上述这些成果整合到一起，EUV光刻机的自主化生产就会变得更加容易。

还记得当时美国对中国实施制裁之时，台积电在美国的威胁之下就停止了生产制造华为的芯片，使得华为的麒麟等自主研发芯片就无法生产了，这对我国的龙头的国有企业打击是非常巨大的，不仅是对华为产生的影响，对国内很多的手机芯片厂商都产生了巨大的影响。

即便台积电已经是一家非常强大的芯片制造公司，但是就算他这样强大，也不能在芯片制造过程中自给自足，自己决定进行企业贸易的公司，这是因为他的一些设备和技术依赖于国外，比如说欧美等国家，其中就有EUV光刻机的技术。

随着美国的打压越来越明目张胆，我国对技术的攻关也越来越努力，之前面对美国技术封锁时是华为的单打独斗，但是现在已经变成了其相关领域大量企业的一项共同目标，我国在芯片领域的进步速度是非常快的，美国想要通过技术封锁来阻碍中国的科技发展速度，但是事情往往南辕北辙，谁也没想到通过这样的手段，反而加快了了我国在芯片领域的步伐。

现在除了中科院，我国现在也有很多企业在从事光刻机的研究，大家都在不同的领域不同的项目上，攻克着光刻机制造的难关。

比如之前华为的海思团队就在武汉建造了一所工厂，主要是为了研制芯片，他们的研究中就包含光刻机的制造与研发。

就像网友说的，中国是大国，中国可以聚集全国之力攻克美国的技术垄断，只是时间问题，中国有钱，有资源，有市场，也有高新技术人才，只要有一定的时间，相信攻克光刻机技术难题是势在必行的。

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