据外媒最新报道称，ASML设计的新一代极紫外光刻机基本已经完成，目前正在美国康涅狄格州的威尔顿安装最后的部分组件，这台机器有望让芯片制造行业沿着摩尔定律至少再走上10年时间。

ASML新品开始组装

据悉，ASML最新研发的极紫外光刻机（EUV光刻机），正在美国的工厂里进行组装。据悉，这台光刻机的造价高达1.5亿美元，约合人民币9.6亿元，而体积则足有一辆公共汽车那么大。而这台震惊业界的光刻机，也将极大推进如今半导体产业界的工艺演进，甚至“将给芯片行业带来新生”。

目前，极紫外光刻技术无疑是晶圆生产链中，最为先进的技术。以全球最大的晶圆代工厂商台积电为例，台积电之所以能在5nm乃至3nm工艺的研发中占据优势，主要也是因为有了ASML的极紫外光刻机的支持。

而如今，台积电已经开始进行3nm及以下工艺的研发，摩尔定律也越来越接近物理极限。对此，业界纷纷想出各种“办法”来突破摩尔定律的极限，比如各种新材料的出现。

但根据外媒的报道，ASML此次研发的最新款极紫外光刻机，将至少使摩尔定律再保持十年的“有效期”。

这意味着，使用该光刻机生产的芯片，将成为业界性能最强悍的产品。换言之，谁能够尝鲜使用，谁就可以在未来芯片竞争中取得一定的领先优势。

光刻机的全线突破

光刻机的制造难度虽然大，但要知道这种机器也是由人制造出来的，而非是神制造出来的，所以哪怕有万分之一的希望，对于我们而言，也是一定要尝试一下的。再加上中国在光刻机领域之中，本身不是一片空白的，早就在上世纪60年代，中国就研发出了第一台接触式光刻机，这些都是相应的技术经验积累，虽然比起现在的阿斯麦来讲，没有办法相比，但是至少比起其他企业是存在一定优势的。

在这样的情况之下，在国内大力投资芯片领域的前提之下，更是在光刻机领域之中投入了大量的人力物力以及财力。目前中科院、清华北大等最高学府，都已经进入到了光刻机技术的研究之中。

好消息是，在经过一段时间的努力之后，上海微电子带来了全球国首台终端国产光刻机，目前这台光刻机已经完成了落地，并且完成了检测认证，预计将会在明年就能够实现大商用。

虽然不比阿斯麦的EUV光刻机，但是在性能至上绝对不比阿斯麦的DUV光刻机差，并且在通过多次曝光的前提之下，也一样能够制造出7纳米芯片，上海微电子所带来的28纳米光刻机，无疑给中芯国际带来了希望。

除此之外，在高端光刻机领域之中，目前我们也已经取得了相对来讲非常不错的突破，比如在三大核心技术之上，国内各大题也已经相继攻克，而中科院的首台高能辐射光源设备，目前也已经完安装完成，可以说在光刻机领域之中，一个又一个好消息传来，我们也算是面临了全线突破。