半导体专用设备市场与半导体产业景气状况紧密相关，随着半导体市场规模持续增大，半导体设备市场增长迅猛。

据预计，2021/2022年全球半导体设备销售额将达到953/1013亿美元。可以预期，随着全球集成电路制造业不断向中国大陆转移，以及中国大陆大量晶圆厂的扩建和产能开出，未来中国市场对半导体设备的需求量有望迎来井喷式增长，巨大的市场空间和扩产空间给国产设备带来了前所未有的发展机遇。

新兴领域需求旺盛，清洗设备重要性凸显

在半导体硅片的制造过程中，需要将硅片抛光、清洗，保证其表面的平整度、粗糙度及颗粒去除干净，从而可以提高在后续工艺中的良品率。而在后续的晶圆制造的各个关键环节也都需要引入清洗，以去除晶圆沾染的化学杂质及颗粒，减小缺陷率。最后在封装阶段，则需要根据封装工艺进行TSV清洗、UBM/RDL清洗等。

因此，清洗工艺的技术是影响芯片成品率、品质以及可靠性最重要的因素之一。如果清洗的精度不够，残留的杂质将会导致芯片电学失效，在芯片的生产中，80%的电学失效都是由沾污带来的缺陷所引起，所以半导体清洗工艺对芯片的良率至关重要，也是清洗设备企业立足的根本，竟争优势的所在。

尤其是随着芯片制造工艺的持续演进，对清洗设备的要求也更高，清洗设备单台价值量不断提升。过去，工业清洗的核心技术曾经长期被外资厂商把持，如今随着本土企业不断攻克关键技术，国产高性能清洗方案也逐步占领市场，在各自细分领域崭露头角。

作为中国的的支柱产业之一，电子制造行业也是国家战略性发展产业。本土中高端电子企业正在不断取得突破，中国的电子工业清洗市场也将迎来跨越式发展。清洗系统的优良将直接影响集成电路产品的成品率，随着电路逐渐复杂化，清洗工序的数量和重要性会继续提升，对清洗设备的要求也将相应增加。

细分领域市场巨大，国产突围需逐个击破

众所周知，半导体设备主要包括光刻机、刻蚀设备、薄膜设备、涂胶显影设备、清洗设备、CMP设备、热处理设备、去胶设备、测试设备等。本土厂商若需要填补设备领域空白，不仅要不断完善半导体设备供应体系，同时也需要各司其职，针对每个细分领域逐个击破。可以说，每一类半导体设备都蕴藏着巨大的市场机遇。

以清洗设备为例，由于其直接影响芯片制造的成品率，所以为了保证品质和高可靠性，硅片制造、晶圆制造、封装三大环节中均需要用到清洗设备，大约占所有芯片制造工序步骤的30%以上，是贯穿半导体产业链的重要环节。

据统计，2018年全球半导体清洗设备市场规模为34.17亿美元，随后的2019年降低至31.72亿美元，主要是由于全球半导体景气度下行，所以导致了市场规模有所下降。不过2020上半年虽然深受疫情影响，但是下半年经济复苏，下游需求旺盛，清洗设备市场规模重回增长正轨，全年达到33.41亿美元，距2018年仅一步之遥。

据行业人士透露，国产清洗设备目前在国内市场的市占率已经达到了20%以上。其中，盛美半导体占据了国内清洗设备市场80%以上的份额，是目前份额最大、产品最全的清洗设备厂商，具备绝对的龙头地位。2020年，盛美半导体清洗设备方面的营收为8.16亿元，占其总收入的81.02%。

显而易见，盛美半导体在清洗设备领域的突破为其快速成长奠定了基础。延展到其他细分类别亦是如此，只要本土厂商能在每一个各自所处的赛道实现突破，国产设备将成为我国晶圆制造领域的顶梁柱，甚至在世界舞台上大放异彩。