光刻机为什么这么重要？

当地时间8月6日，华为孟晚舟案已经结束引渡的“程序滥用”分支辩论，其实无论怎么样，只要华为不低头，放弃在5G方面的领先地位，美国就不会善罢甘休，我相信任正非先生也有这个准备，肯定会在别的方面有打算。

美国在5G方面对中国的打压，已经无所不用其极，前些时日，组织荷兰阿斯麦（AMSL）公司向中国出口EUV光刻机，也就是说，美国已经在两个方面对中国的5G进行打压，一是通过扣押孟晚舟来威胁华为放弃5G技术或者交出相关资料。另一方面，通过阻止中国获得加工工具，阻止中国在芯片制造技术上的进步。

科技是解放和发展生产力，创造价值的极其重要的手段，甚至已经能引领未来的经济活动。为了利益，美国已经不再遮掩，连遮羞布都不要了。

5G技术咱们不多谈，聊一下光刻机到底是什么？
首先了解一下什么是芯片？

芯片是一种微型的集成电路（integrated circuit）。就是在半导体晶片上把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连在一起。

芯片很小，要是把元件做得很小然后组装在晶片上，微操作难度太大。因此，现在芯片使用的都是光刻工艺，是一种光学、化学工艺领域的技术。光刻工艺包括硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。其中，如何精准曝光，关系到芯片刻蚀精确度，即关系到芯片的成功率。

芯片制作曝光需要紫外光源。而要做到纳米级的控制，需要极紫外光（EUV）。因此，现在芯片制作加工需要的光刻机，也叫极紫外光刻机（简称EUV）。

ASML是世界上最优秀的光刻机制造商，其光刻机精度最高能满足3nm芯片的生产需要，及其先进。这使得它几乎占据全球整个高端光刻机制造市场。

十四五规划中，国家下决心解决卡脖子技术，因此中国也在光刻机制造领域奋力追赶。目前从相关报道来看，中国武汉光电中心的研究已经突破9nm光刻技术，跟最高水平仍有较大的差距，不过由于是国家层面制定了战略规划，集中力量干这件大事，因此追上和超过应该是绝对有信心的。

十四五规划，国家重点发展第三代半导体