弯道超车，我国光量子芯片取得重大突破，国内芯片曙光来临

中国虽然是世界有名的制造业大国，但是我国在半导体芯片领域却一直都比较落后，这些年来中国科技企业生产所需的芯片几乎全部都是依赖于从国外进口而来，根据相关数据统计显示：在2019年，中国从国外进口的芯片市场规模超过了2万亿元，远远超过石油能源，成为了国内第一大进口商品，过度的依赖于国外芯片的发展，也导致国产科技企业的发展很容易被人卡脖子！

国内半导体芯片市场上，可以说只有华为的海思麒麟芯片拿得出手，但是在被打压以后，台积电就不再继续给华为生产海思麒麟芯片了，这也导致华为的芯片成为了绝版；而我们之所以无法生产出先进的半导体芯片，主要就是因为我们缺乏先进的光刻机，如果拥有了光刻机，那么华为的海思麒麟芯片也就不会仅存在于图纸上，国产科技企业在半导体芯片领域也将不会受制于人！

极紫外光刻机（EUV）被誉为“现代工业皇冠上的明珠”，其工艺逼近物理学、材料学及精密制造的极限，是芯片工艺向7nm以下发展必不可少的工具。

换句话说，要制造最先进制程的芯片，就必须使用EUV光刻机。

在2018年就已经开始，中美围绕EUV光刻机展开激烈的博弈和斗争，

2018年5月，中芯国际向ASML下单一台价值1.2亿美元的EUV光刻机，预计2019年底交付，2020年进行安装。

几乎同时，特朗普政府向荷兰政府发出威胁，不得向中国交付这台EUV光刻机，否则美国政府将断供该光刻机上的美国部件，并在2019年明确向荷方表态：“好的盟友不会向中国出售这类设备”。

2019年11月，ASML宣布，荷兰政府不再续签相关出口许可，向中芯国际出售EUV光刻机的计划正式终止。

特朗普后，拜登政府进一步确定EUV光刻机的“战略价值”，持续向荷兰政府施压，以国家安全为由阻止荷兰ASML公司向中国大陆出售EUV光刻机。

这一次次美国的打压，也让无数的国产科技企业都意识到了研发自主芯片产业链的重要性，最近这两年，在国内市场上也开始掀起了一股研发芯片的潮流，而且中科院、清华大学等国内顶级具有研发实力的机构和单位也开始成立了专门的科研小组，为得就是研发和解决光刻机等卡脖子的技术问题。

当然，最便捷的路子是弯道超车，研制出替代半导体芯片的新产品。

在光量子芯片领域，我国的科研团队一直在不断的努力攻关，

什么是量子芯片呢？把量子线路集成在基片上，以此承载量子信息处理之功能的，就是量子芯片。这种量子芯片呢，跟传统芯片的制造流程基本上是一致的。量子芯片属于基于传统光导体的一种新型芯片。

中科院官宣:该校郭光灿院士团队在光量子芯片研究中取得重要进展。该团队任希锋研究组与中山大学董建文、浙江大学戴道锌等研究组合作，基于光子能谷霍尔效应，在能谷相关拓扑绝缘体芯片结构中实现了量子干涉，相关成果以“发表在国际知名学术期刊《物理评论快报》上。

清华大学团队已经宣布：在研究新型粒子加速器光源过程中，发现了一种波长可覆盖从太赫兹到极紫外波段，这种光源可以直接被应用到EUV光刻机上。要知道ASML公司所生产的EUV光刻机就是应用了极紫外光技术，如果我们能突破这一技术，也就意味着我们的EUV光刻机也就不远了！

当然，对于清华大学新光源的发现，不少业内人士表示，虽然这种光源还处于实验室阶段，但是，一旦商用，将缩短我国EUV光刻机一半以上的研发进程。

近日，国防科技大学计算机学院QUANTA团队联合众多的国内科研单位一起主导的光量子芯片也取得了新的进展和突破，他们已经编写出了新型可编程光量子芯片，这种芯片能用多种量子算法求解，可以说这一新突破也意味着我们在光量子芯片领域有了新的发展方向。

要知道，目前我们所使用的芯片大多都是硅基半导体芯片，而这种芯片是要遵循摩尔定律来发展的，可以说它也是有一定天花板的，当硅基半导体芯片发展到了5nm以下以后，就很难再有新的突破了，所以不少顶级的半导体巨头都在寻找新的芯片材料，而光量子芯片无疑就是发展的一大方向，如果我们能实现突破的话，那么也可能对国外的半导体芯片实现弯道超车！

为什么世界上只有ASML公司可以制造出EUV光刻机？主要还是因为ASML公司是世界上唯一掌握了极紫外光技术的企业。如今，清华大学在极紫外光取得重大突破，打破了ASML公司对极紫外光的技术垄断，进而危及到其在EUV光刻机领域的霸主地位。

所以加强在光量子芯片领域的发展，对于我国目前的发展形势而言是至关重要的。当我国在这项技术上有了真正的大突破，就可以对现有的发达国家所掌握的芯片研发与光刻机技术上实现弯道超车。