照搬老美？打破日企垄断光刻胶，国产芯未来可期

到目前为止，想必大家都已经知道了芯片对于我们国家有多重要了，全球都正在面临着缺“芯”危机，我国到现在也没有做出自己的高精端芯片。此前需要用到的半导体光刻胶90%以上都是从日本或美国进口，所以中国的光刻胶产业也长期遭到其他企业的压制。但现在，中国可以很有底气说出：没有芯片，我们就自己造芯片；没有光刻胶，我们就自己研发光刻胶！

图为芯片

中国光刻胶现状如何？

芯片问题一直是国际上最热点的话题，通过制造芯片并加以运用，可以实现各个领域的科技创新，可芯片的制造也是不容易的。制造过程中需要用到光刻机和光刻胶，光刻机的作用是将芯片的电路图复刻在芯片上，而光刻胶的作用就是在这外边涂上一层胶质之后形成抗刻蚀的保护膜，也就是说后续的刻蚀和沉积工序都要在光刻胶的基础上才能完成。

现在全球都在面临着缺“芯”危机，所以光刻机、光刻胶等这些制造芯片的原材料或设备都是目前市场的刚需，而掌握这些核心工艺技术的企业就掌握了这个市场的绝对话语权，比如日本信越化学在光刻胶领域就具有一定的发言权。

近日，日本企业扬言要断供光刻胶，我国的光刻胶又大部分是从日本进口，这对我国来说，无疑是个大难题。日本企业对于中国断供光刻胶给出的解释是产能不足，供应紧张又缺乏产能，所以只能断供。

这个解释似曾相识，因为此前中芯国际向ASML订购了一台EUV光刻机，但ASML迟迟没有交付，给出的原因也是产能不足，随后台积电也终止了和华为的合作。

面对美企轮番的压力以及日本放话要断供我们的光刻胶，在这种环境下中国想要突出重围确实是有点困难。但让人高兴的是，最近国产光刻胶不断传来好消息，中国也慢慢地掌握了部分关键技术。

图为光刻胶

高光时刻！国产光刻胶大突破

在之前，江苏南大光电就发出公告称公司自主研发的ArF光刻胶产品具备了55nm工艺要求，最近又传出好消息，南大光电已经成功接到小批量的订单，甚至7nm的高端芯片制造环节也能实现运用。

此外，龙头企业晶瑞股份的KrF光刻胶也取得了很大的突破，完成了中试阶段，下一步就能实现量产，成为我国这一领域的中坚力量，其公布的2021年半年度业绩预告显示，公司上半年利润将达到11300万元至14690万元，较上年增长456.58%，这发展速度令人瞩目。

图为南大光电

国产光刻胶产业巨头通过了客户认证，拿到了关键订单，掌握了核心技术，并成功进入生产线，这一系列的好消息表明，中国正在打破海外垄断，开拓自己的市场，实现中国芯片的崛起。打破了其他企业的垄断，中国无可限量！