中国光刻机迎来巨大成就，光镜膜设备即将问世！成功突破欧美垄断

近日，一条消息引爆了整个互联网，以霸权主义闻名天下的美国向荷兰施压，禁止向中国出售光刻机，众所周知！光刻机是芯片的核心技术，受制于光刻机的中国今后又该何去何从？，中国能否突破光刻机的难题再创奇迹？

国产光刻机真的能在十年内问世吗？今天就跟随小慕一起来了解一下，新来的观众朋友们，可以长按点赞强烈推荐一下，让更多的人可以看到本期视频，众所周知，如今我国芯片技术正处于史上最艰难的时候，可以说是四面围堵。

而我国自主研发的麒麟芯片，更是成为了一代孤品，其实中国在芯片领域来说并不是很弱，只不过由于缺少光刻机，才不得不陷入了木桶困境，因此导致中国的芯片行业举步维艰，一直没有实质性的进展，那么究竟什么是光刻机呢？

光刻机是如今21世纪避不开的网络热词，它和如今工业革命的核心产品“芯片”，有着密不可分的关系，没有高精密度的芯片，那么人工智能VR物联网都不可能实现，可以说光刻机对于我们这个年代。

如同蒸汽机 发电机、以及计算机，对于前三次工业革命一样重要，是目前衡量一个国家，科技研发以及技术水平的标杆，光刻机是通过紫外线光作为刻刀，把预先设计好的芯片电子线路，雕刻到准备好的硅晶圆涂抹的光刻胶上。

其精密度可以达到头发丝的千分之一 ，例如华为设计开发的麒麟芯片，其生产就离不开光刻工艺，其实光刻机的原理并不是很难理解，首先需要制备出芯片电路图的模板，然后在硅片上涂抹特制的光刻胶，利用紫外线光源。

通过模板将其照射到光刻胶上，经过一系列的对准曝光处理之后，紫外光照射区域的光刻胶，会因为化学效应而发生变形，之后再通过显影技术将曝光后的光刻胶去除，再采用干法刻蚀的技术，将芯片电路图传递到硅晶圆上。

虽然光刻的整个过程看起来并没有什么难度，但其中的光刻工艺却是要求甚高，光刻工艺的好坏，直接决定了芯片中晶体管的性能和大小，光刻机中的曝光光源决定了，加工器件的线宽和尺寸，而目前市场上主要采用。

深紫外光源和极紫外光源的EUV光刻机，说到这里，有人就觉得光刻机听起来好像也不过如此，为什么要说它比造原子弹还难呢？要知道随着科技的发展，现代高端手机芯片中的晶体管数量达到了上百亿个。

例如华为研发的5nm麒麟芯片，每平方毫米就有晶体管1.7亿个，而这样的加工精密度，直接决定了，光刻机必将是一个技术含量最高的设备，涉及到紫外光源 光学镜头等，多项世界各国顶级科技成果的运用。

仅仅是供应商就超过了十七家，其中美国占九家日本占据了三家，最核心的镜头以及光学器件来自德国的蔡司 ，光源则是来自美国的Cymer集团，轴承来自瑞典，还有一些关键设备则由日本制造，可以说一台光刻机仅凭一个国家。

是根本无法造出来的，需要结合多国技术才能组装出一台，因此光刻机被称为，现代半导体行业皇冠上的明珠，单台EUV光刻机配件多达10万个，价格更是高达1.2亿美元，当前世界上光刻机市场，百分之八十九的份额都归荷兰阿斯麦所有。

剩下的百分之十一，则被日本的尼康和佳能所瓜分，而七纳米以下的EUV光刻机市场，则被阿斯麦完全垄断，环顾世界，如今能造出原子弹的国家有很多，但高端的EUV光刻机，现在只有荷兰的阿斯麦公司能制造。

一方面，一台EUV光刻机10万配件，需要集结全球顶级技术，不是一个国家的技术能够独立实现的，另一方面，光刻机仅仅只是生产工具，不像原子弹可以不计成本，甚至可以举国之力进行制造 ，光刻机只是芯片制造中的一个环节。

还需要上下游产业链的支持，能造出来不稀奇，重要的是还能靠它赚钱，为此早在几年前，我国就有多家企业和ASML签订了买卖协议，然而却遭到了美国的多方阻拦，美国知道，一旦中国大陆拥有了光刻机。

我国的芯片技术将产生质的飞跃，为此美国千方百计地阻挠这一次的交易，但结果却是差强人意，据荷兰科技巨头ASML公司，首席财务官对外发表声明称，以后ASML向中国出口EUV光刻机，不在需要经过美国点头。

这就说明荷兰方面不再受到美国禁令的影响，美国制华的政策再次宣布失败，此次荷兰AMSL公司态度突然转变，宣布对华出口和美国无关，致使大批光刻机连夜进入我国，一方面荷兰想要通过加强与中国的合作。

获得更加丰厚的收益，另一方面也想借此机会，打破美国一直以来对荷兰的经济压制，可以说ASML公司这次做了一个非常正确的决定作为全球半导体领域的巨头产，ASML公司在光刻机领域的成就非常之高，但长久以来因为美国对华的制裁。

使得英、法及荷兰在半导体领域，无法给予中国技术支持，据ASML公司对外发布的2020年第三季度财报表示，美国制华政策对ASML公司的经营造成了相当大的困扰，其在中国的第三季度效益远远低于，此前第一季度的水平。

这是ASML公司不愿意看到的事情 ，而后阿斯麦也出面做出了解释，称当前美国相关规定对EUV光刻机造成了很大影响，直接向中国客户出口光刻机，不过在随后的采访中阿斯麦又重新做了补充 ，称如果光刻机的部分零件或是核心系统。

可以从美国进口的话，那在向中国出口光刻机时，则仍然需要获得美国的同意，荷兰的这种行为，目的就是想利用中美的争端，从中获得更大的利益，随着中国半导体产业的崛起，需要不断引入更多的外来技术。

带动中国自身产业的发展，但由于受到 阿森纳协定 的影响，原本中国与荷兰ASML公司谈好的，高端光刻机进口计划却频频受阻，ASML公司无法在规定的时间内，交付中国预定的光刻机，这不但让我国受到损失严重。

还阻碍了ASML公司的经营效益，而这些问题的主要来源，就是因为美国的从中作梗，早在去年 ，华为麒麟芯片在发生断供现象的时候，国内半导体产业就意识到，美国已经开始对中国实行技术封锁，因此对于当下的中国半导体产业来说。

发展本国自己的芯片制造体系就显得尤为重要了，但半导体领域的建设并非一朝一夕就可以完成，无论是在系统的建立还是技术的提高上，中国目前都仍显不足，尤其是在硬件设施上，我国仍然存在很大的劣势，这严重拖垮了中国科学家的研究技术。

也正是因此，从ASML公司进口高端光刻机，是目前中国半导体产业迫切需要的，中国科学院院长白春礼，此前在对外接受采访时曾表示，未来一段时间内科学院 ，将开始光刻机的正式研发工作，而在此消息传出不到两周，ASML公司的态度就突然倒向了中国。

称ASML作为全球半导体产业的重要合作伙伴，在今后有计划将其公司的市场重心转移到中国，ASML公司察觉到了危机感，中国科学院的介入，注定会对未来世界范围内，半导体领域的格局产生很大影响。

甚至可以说，中国在未来超越荷兰阿斯麦，也不过是时间问题而已，因此ASML公司才想马上抢占中国市场，稳住自身地位，那么我国是否能够突破光刻机的困境呢？，纵观历史，我国其实早在60年代，第一块集成电路问世之后。

就已经开始了光刻工艺的研究，但在80年代以后，为了加快发展脚步，我国将工作重心转移到了重工业上，再加上当时国家也缺乏相应的芯片产业链，很多自主研发项目纷纷下架，因此芯片技术的研发才受到了影响，但随后我国立刻意识到了科技发展的重要性。

多次打破世界纪录，当前，我国光刻机的主要生产厂家是上海微电子，该公司现已实现90纳米光刻机的量产，目前研发的28 nm工艺的国产光刻机，也将预计会在2021年交货，虽然和国际领先的5 nm光刻机还存在不小的差距。

但已经可以满足国内芯片市场的中端需求，2019年4月，武汉国家技术研究中心团队的研发成果，更是突破了光束衍射的极限，利用远场光学成功在自主研发的光刻胶上，雕刻出了一条宽9nm的线段。

实现了从超分辨率成像到超扩散极限光刻的重大突破，然而从实验室到批量化制造商用设备，我们依旧还有很长的路要走，有德国媒体预测 ，中国有望在10年内实现光刻机的自给自足，而阿斯麦CEO更是猜测中企最快3年内就可以攻克难关。

但无论怎样，我们都应该脚踏实地，特别是对于需要几万个零部件，都要达到高精准度的高端光刻机来说，目前我国 国内产业链的制造水平还暂时达不到要求，我们的任务依旧艰巨而繁重，不过我相信。

只要我们打好基础 刻苦专研，突破光刻机难题也只是时间的问题，好了以上就是本期的内容，今天的视频内容到此结束，欢迎大家在留言区评论留言，如果你喜欢本期视频的话，记得长按屏幕下方的点赞按钮，我们下期视频，不见不散！