再次甩开国产！ASML官宣1nm光刻机设计成功，这还怎么追？

文/数码新一

光刻机作为半导体产业中不可或缺的尖端设备，原本和作为普通人的我们并无多少交集，然而因为今年华为受到美国芯片制裁，这让不少人也开始慢慢了解到麒麟芯片背后的这种精密设备—光刻机。

光刻机作为芯片制造中最重要的设备之一，它的存在是无法替代的。而国产代工企业的短板也恰恰在此，缺少顶级的EUV光刻机，不是没钱买，而是买不到！

常言道：巧妇难做无米之炊，芯片的原材料很简单就是硅，也就是我们常见的沙子。然而把沙子变成芯片的“锅”可不简单，光刻机的组成需要经过十万个零部件构成，要集合全球之力才能集齐，然后再经过上千名专业科研人员调试一年才能够正式投入使用，可见它的难度有多大，所以一台EUV光刻机卖2亿美元也就很容易理解了!

目前市场上最先进的是荷兰ASML的EUV光刻机，也是目前主流的光刻设备，它能够实现7nm、5nm甚至是3nm制程的芯片生产任务。而国产光刻机的最新消息是上海微电子成功研发出22nm的光刻机，且要明年才能上市，对比之前虽说已经迈出了关键性的一步，但与ASML的差距还是非常之大，因为芯片发展到现在已经是5nm了，并且台积电的3nm技术已经提上日程，明年上半年将实施量产，如此看来国产的22nm刚出生就已经面临淘汰了，这话虽然难听，可这就是事实！

不过好在芯片的发展也不是永无止境的，根据半导体行业专家的推算，芯片制程到了3nm、2nm已经是极限，届时摩尔定律将失效！

说简单一点就是你再怎么发展也很难打破物理极限，就像水的沸点是100摄氏度，等水烧开后你再怎么加大火力它还是100摄氏度。同理，当芯片制程升级到2nm时就很难再进一步了，除非更换材料，把水换成油就能温度就能增加，但芯片可不一样，它的原材料是沙子非常便宜且普遍，想要找到代替它的材料可不容易，或许运气好找到了也很有可能因其成本高昂而无法批量使用，总之就是芯片发展的尽头很可能就是3或2nm。这时候国产追赶的机会就来了，当行业已经触及天花板停滞不前的时候，国产还有很大的发展空间，要知道时间能够抹平一切，届时追赶上ASML也是很有可能的！

1nm NA EUV光刻机

然而现实却并没有像我们想象的那样，近日光刻机巨头ASML传来最新消息，其已经设计出最新的1nm NA EUV光刻机（高分辨率光刻机），能够实现1nm及以下的制造工艺，将在2022年实现商用。对此，IMEC（微电子研究中心）首席执行官Luc Van den hove予以证实，他表明已经与ASML展开了紧密的合作，成功实现高NA EUV光刻机技术商业化！这就意味着1nm光刻机与我们越来越近，如此与国产的差距再次拉大，这还怎么追？如果真是如此，那么国产很有可能追不上了！

不过即使1nm光刻机能够实现商用对芯片的提升有没有用还是两说，因为光刻机只是芯片制造中的一环而已，其他方面跟不上也是白搭，芯片原材料“硅”能不能支撑到1nm还未可知！

当然不管怎么说，ASML远远领先国内是肯定的，国产光刻机的发展仍是任重而道远啊，还不知道需要几个10年才能拉近差距！