150台光刻机，荷兰动真格了，外媒：结束了

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在当下的半导体产业中，ASML一直扮演着举足轻重的角色。然而，最近的一系列事件却让这家荷兰公司陷入了困境。从瓦森纳协定到美日荷的三方协议，再到荷兰的宣布，ASML正面临着前所未有的挑战。

瓦森纳协定曾被视为半导体行业的重要里程碑，它限制了EUV光刻机的出口。然而，ASML并未受到太大影响，因为他们仍然可以继续出货先进的DUV光刻机，尤其是2000i型号的DUV光刻机，这些设备可以将芯片制程缩小至5纳米。然而，美国和日本却在背后签署了三方协议，要求荷兰限制主流的DUV光刻机出货。

荷兰曾表示愿意配合美国进行半导体设备出口管制，但却没有透露具体的政策和时间表。然而，最近荷兰终于下定决心，正式宣布将限制主流DUV光刻机的出货，包括2000i型号及其后续型号，而这一政策将于9月1日正式生效。

这一决定对ASML来说是一个重大打击。根据数据显示，ASML未交付的订单金额超过了389亿欧元，而国内订单占据了高达20%的比例，涉及金额超过600亿元。而2000i型号及其后续型号的DUV光刻机平均单价达到了4亿元，这意味着大约有150台光刻机可能无法正常交付。尽管ASML表示中国市场对他们来说至关重要，他们将向中国厂商分配更多产能，出货更多光刻机，但新规实施后，ASML也陷入了无法自拔的境地。

或许ASML早已预见到了这一结局，因此他们率先透露了三方协议的签署消息，并宣布在国内开设了超过200个职位，覆盖了整体光刻解决方案下的多个领域，包括客户支持工程师、软件开发工程师以及职能部门等职位。他们的目标是实现更多的技术国产化，以便在出货方面获得更大的自由。毕竟，ASML光刻机的核心技术仍然来自美国。然而，荷兰政府的宣布似乎让这一努力变得更加紧迫，因为9月1日政策正式生效后，ASML在国内市场的份额预计将进一步下滑。

首先，ASML在国内市场的份额已经持续下滑，从14%降至了8%。荷兰政府的新政策将进一步削弱ASML在国内的市场地位。国内厂商需要的是先进型号的DUV光刻机和EUV光刻机，但EUV光刻机受到了限制，国内厂商只能选择先进的DUV光刻机，然而这些光刻机也将被限制。此外，ASML能够出货的DUV光刻机型号在国内的需求相对较小，而国内的光刻机制造商也已经崭露头角，有望替代进口设备。国产光刻机已经在国内市场占据了80%以上的份额，而且，28纳米精度的光刻机已经获得了技术验证，预计将很快投入量产。

其次，国内厂商如华为已经在积极推动去美化战略，努力构建非美国技术的芯片产业链。中芯国际宣称，28纳米工艺的风险已经不断降低，而14纳米工艺的良品率达到了世界领先水平。华为的畅享60系列采用的是麒麟710A芯片，这表明14纳米去美化的工作基本完成。此外，华为已经联合国内厂商实现了14纳米以上EDA工具的国产化，而中芯国际也自主研发了N+1等工艺。华为的高管李楠更是公开表示，未来12个月内，国内厂商将实现非美国7纳米工艺的全流程。这意味着国内厂商正在加速去美化的进程，对ASML的光刻机需求自然会逐渐减少。

最后，国内厂商正在积极研发更为先进的芯片，这些芯片无需依赖ASML的光刻机。例如，国内已经开始建设量子芯片生产线，而华为在光电芯片领域处于领先地位，国内的小芯片技术也已经突破了4纳米。荷兰政府也宣布将投资11亿欧元进入光电领域，试图

打造另一家ASML。这些举措表明，国内厂商已经认识到降低对ASML的依赖，发展自主的半导体生产能力对国家安全和产业长远发展至关重要。

面对这一系列挑战，ASML正陷入了前所未有的竞争和市场变革中。他们不得不面对来自荷兰政府的政策压力，以及来自国内厂商的激烈竞争。虽然ASML仍然在全球范围内拥有强大的市场份额和技术优势，但他们也必须面对现实，尤其是在中国这个巨大的市场上。

随着荷兰政府的限制政策正式生效，ASML在国内的市场份额有望继续下滑，而国内厂商正在积极推动技术自主化和去美化，减少对进口设备的依赖。这将加速中国半导体产业的发展，提升国内产业链的稳定性和可控性。

总之，ASML面临的挑战不仅仅是市场竞争的问题，更是国际政治和技术自主性的考验。半导体产业是全球经济的重要组成部分，各国都在争夺技术领导地位。ASML将不得不在不断变化的局势中保持灵活，寻找新的机会和合作伙伴，以确保自身的竞争力和持续发展。这个行业的未来充满了不确定性，但也蕴藏着巨大的机遇，谁能够抓住机会，谁就能在半导体产业的竞争中脱颖而出。

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