ASML没想到！30年所依赖的关键，北大实现突破还更加先进！

近日，一项来自北京大学电子显微镜实验室高鹏研究员的研究成果引起了全球的关注。他们成功掌握了扫描透射电子显微镜技术，这一突破性的进展被《半导体学报》列为2021年度中国半导体十大研究进展之一。

芯片制造一直被视为“现代工业的粮食”，而光刻机则是芯片制造过程中最复杂、最关键的工艺步骤。光刻机的重要性不言而喻，ASML公司一直是光刻机市场的霸主，凭借独家能够生产EUV光刻机，占据着该领域80%的市场份额。

北大电子显微镜实验室的高鹏研究员领导的团队成功掌握了扫描透射电子显微镜技术，这是一项基于扫描电子显微镜发展的四维电子能量损失谱技术。与传统的谱学手段相比，这项技术具有更高的准确性和灵活性，也为实现国产EUV光刻机提供了更大的可能性。

德国蔡司的EUV光镜采用传统的人工打磨制作方式，随着精度的提高，制程上限也越来越难以保证。然而，北大掌握的电子显微镜技术能够规避传统光谱镜头的局限性，为EUV光刻机的发展提供了新的方向。

国内芯片产业链早已布局，并在各项技术环节持续攻坚。这与光刻机技术的突破同样如此。虽然面临着技术壁垒高、突破难度大的挑战，但相信凭借国内科研机构的不懈努力，国产EUV光刻机终将成为可能。

ASML对大陆的预测和担忧并非毫无根据，事实上，国内的科技团队已经展现出了惊人的潜力和实力。对于芯片产业的发展，我们拥有足够的信心。未来，国产EUV光刻机的实现将为中国芯片产业带来新的机遇和挑战，成为我国在全球科技竞争中更上一层楼的关键之举。