台积电3nm芯片良品率低于三星,或与坚持采用FinFET技术有关

近期有报道称,台积电(TSMC)在3nm芯片的生产上遇到一些问题,良品率一直无法提高,A17 Bionic和M3芯片的良品率仅为55%。为此台积电和苹果双方约定,不会按照标准的晶圆价格收费,苹果仅向台积电支付合格芯片的费用。

另一方面,近年来一直受到良品率困扰的三星似乎摆脱了困境,先进工艺的良品率不断提升。此前有报道称,三星已经将4nm工艺的良品率提升至75%,与台积电4nm工艺的80%良品率已经很接近了。据KMIB的最新消息,三星在3nm工艺的道路上似乎越走越顺,良品率已达到60%,高于台积电的55%。

这并不是第一次出现类似的信息,此前三星曾表示,3nm工艺量产后的良品率可达到最高70%。虽然表面数字看起来有所下降,不过这可能与产量的爬升有关,具体情况相关报告里都没有提及,但无论如何,至少说明三星在良品率方面有较大的进步。要知道在去年11月,三星3nm工艺的良品率仅有20%。

有业内人士表示,台积电在3nm制程节点上遇到的良品率问题可能与坚持采用传统的FinFET(鳍式场效应晶体管)有关,甚至会持续到2nm制程节点。与台积电不同,三星的3nm制程节点启用了全新的GAA(Gate-All-Around)架构晶体管技术,随着生产方面越来越成熟,良品率也得以提高。此外,最近半导体市场不景气也给了三星机会,可以有更多的时间测试和改良3nm芯片的生产线。

传闻三星的努力很快会得到回报,AMD可能会在接下来的一些人工智能及数据中心芯片上选择其3nm工艺。

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页面更新:2024-03-10

标签:三星   芯片   晶体管   不景气   最新消息   高于   节点   此前   苹果   工艺   技术

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