封锁失效！哈工大攻克光刻机关键技术，外媒：中国又获一张底牌

太长脸了！

据媒体报道，哈工大终于攻克困扰我国已久的光刻机光源难题，成功研制出“高速超精密激光干涉仪”，测量结果能直接回溯。可以说为上海微电子“光源国产化”问题，贴上最后一片拼图。

老美高喊“对华脱钩”，对我国关键芯片技术、设备实施禁运和限制。荷兰作为垄断光刻机（芯片产业核心制造机器）的大国，也被老美拉入阵营，想要彻底堵截我们自研芯片产业的发展。

没想到，老美这次是高估了自己、错判了盟友，小瞧了中国。

01. 美、荷刚刚联手，国产光刻机便获重大突破

目前全球只有荷兰ASML（阿斯麦）能生产高制程光刻机，完全是卖方市场来主导价格。而光刻机本身就是一种具备了精密仪器、数学、化学、高分子物理、图像识别的顶级工业产物，价格高昂。

华为云研发专家马超就曾表示：“如果中国能用 10 亿美元直接买到一台 EUV，我相信华为肯定会毫不犹豫地下单。”

尽管ASML总裁多次表示中国市场十分重要，集团总收入的34%都来自中国，ASML近1/3的员工都是靠中国吃饭。

可惜的是，老美屡屡从中作梗。

CNBC网消息，早在2018年的时候，荷兰ASML（阿斯麦）公司就接受了1.2亿美元全款，计划将EUV光刻机出售给我们。老美代表在荷方会议室整整咆哮了3个小时，要求荷当局与其保持步伐一致，最终ASML公司妥协，限制DUV、EUV等光刻机出口，堵住了我们的芯片自研之路。

就在国芯嗷嗷待哺、技术突破迫在眉睫之际，光刻机制造的关键环节终于迎来巨大突破。

近日，国内媒体报道，我国哈工大成功研制出了高速超精密激光干涉仪，用于350nm到28nm工艺的光刻机样机集成研制和性能测试。

光刻机重达几十吨，里面涉及数十万个精密零件、三个大系统。其中，两大系统国产技术早已攻破，只有光源技术系统是最难突破的“高地”，这意味着我国终于突破这一技术壁垒，完成了DUV光刻机的“最后一张拼图”。

02. 封不住！中国大市场无可替代

“微软之父”比尔盖茨曾严肃地建议，“不要对中国实施技术围堵，这非常愚蠢！会迫使他们升级技术，反噬我们的市场”。可惜无人在意。

三年里，美的围堵之势越演越烈，本想一举摁死我们的芯片产业，没想但却激发了中企熊熊斗志。2021年度增速最快芯片企业中，前20家中，有19家来自中国。我国技术势如破竹，接连告捷。

光刻机技术突破前，中芯国际等企业就已经获得28nm芯片自研技术的突破，还大力投建工厂，扩大产能，成功补足840亿颗进口芯片缺口。

老美对盟友的判断也接连失策。此前老美不断对日施压，要求管控对华芯片出口。然而日方却陷入两难，甚至公然叫板：中国在全球供应链中心的作用无法替代，我们离不开中国市场。一旦失去，损失将会超过2.6万亿人民币”。

03.外媒：对华围堵，想回去就难了

这对这次光刻机突破，外媒接连发文直言，“差距越来越小了。”

而失去中国市场后，美芯迎来寒冬，多个美企巨头库存积压，芯片卖都卖不出去。高通业务受重创，25家美芯巨头甚至直降90%抛售，也改变不了现状。至2023年2月，美芯片产业市值缩水数万亿。

荷兰的日子也不好过。光刻机巨头ASML的总裁频繁喊话老美，要求解除限制，重回中国市场，“物理技术就在那里，中国关键技术持续突破，再晚他们就造出来了”。

据悉，目前上海微电子正在与国内激光企业、哈工大等高校共同突破光源“国产化”落地的问题，预计国产DUV光刻机很快将实现交付。

诸多事实证明，国产技术走向世界、引领发展的时代，已经提前到来。