日、荷加入对华芯片限制：短期形成冲击，中长期国产替代必将受益

据彭博社报道，日本和荷兰将加入美国行列，建立共同联盟限制中国获得先进半导体设备。美日荷最快将于美国时间周五就新供应限制结束谈判，三国不打算公开管制内容，而是直接执行。去年10月美就已出台对华出口管制新规，不仅限制先进芯片对华出口，同时还限制位于中国大陆的晶圆制造厂商获取14nm及以下先进制程逻辑芯片、128层NAND闪存芯片、18nm及以下DRAM内存芯片所需制造设备的能力，除非获得美国商务部许可。

此次日荷跟进美国新规共同限制对华半导体设备出口，意味着荷兰ASML旗下至少部分中高端DUV光刻机无法继续对华出口，同样日本光刻机大厂尼康部分光刻机也无法继续对华出口。此外，诸如东京电子等众多日荷兰半导体设备厂商的一些半导体设备对华出口也将受影响。虽然DUV光刻机可被用于16nm至5nm先进制程芯片的制造，但目前被业界广泛应用在45nm及以下成熟制程。因此，一旦DUV光刻机被加入限制，将意味着中国自45nm及以下成熟制程芯片的生产也会受到一定影响。

我们认为，半导体设备问题终究是技术问题，因此必然有解，并且国内产业链也知道目前最尖端的技术可以做到哪一步。虽受国际制裁限制，短期内或将对国内芯片产业会形成较大冲击，但这也是国内半导体产业一次破釜沉舟将命运握在自己手中的机会，国内拥有庞大的工程技术人员基数与市场需求，拉长时间维度来看，对华半导体出口管制必将促使国内成功开发自己的先进半导体设备制造技术。

我们建议优先关注破局先进制程限制突破口之一的Chiplet产业链标的：芯原股份、通富微电、长川科技；同时，材料端自主可控有望加速，高端光刻胶也迎来国产替代良机，建议关注具备先发优势和产业链一体化优势的企业：华懋科技、彤程新材；此外，在国产替代迫切需求以及国内政策支持下，建议关注：国产ICP刻蚀设备龙头北方华创，半导体清洗设备优质企业盛美上海，薄膜沉积设备国产龙头拓荆科技。