台积电大动作后，三星开始放大招了

如今，芯片制造先进制程的竞争已进行到了3nm，但似乎只有台积电和三星两家在竞争。英特尔7nm掉队后，虽然重启代工业务，制定了技术追赶计划，但还未见效。

之前，还有中芯国际计划进行7nm风险量产，但被美限制先进制程后，再无相关进展消息。如今，台积电和三星正在激战3nm，台积电大动作后，三星开始放大招了！

三星为抢占3nm全球率先量产，于2022年上半年最后一天，大张旗鼓举办了3nm出货量产仪式，这个举动当时被认为在向台积电叫阵。不过，3nm良率却一直上不来。

台积电一向先进制程领先，对于三星的举动也只能暗暗较劲，估计是在解决技术等问题。然后，为了展示技术实力，在2022年的最后几天，罕见举办了3nm量产典礼。

重点是，台积电现任董事长刘德音表示，3nm量产的良率和5nm量产的同期相当。

据业内人士分析，台积电N3的良率可能在60-70%，如果按刘德音所说与5nm量产同期相当，那极有可能达到75-80%。而相比之下，三星3nm的良率仅为10-20%。

如果是真这样的话，那么三星3nm即使领先半年量产，也跟台积电的3nm比不了。

所以，三星一直没有获得较大的客户，反而台积电已经有苹果、英特尔、高通、联发科等客户表达使用意愿。那么，台积电3nm良率到底如何，会否是虚晃一招呢？

首先，台积电没有表明3nm良率到底多少，只是刘德音说跟5nm量产同期相当。这似乎并不能让人信服，反而有些令人生疑，毕竟台积电3nm量产向后推迟了多次。

其次，目前只有台积电和客户知道3nm的确切良率，外界对此并不清楚，他们也都未对外透露。很显然，把良率当成了代工厂和客户的机密，所以良率高低不能确定。

再者，良率计算方式有争议，不具参考性。是仅商业晶圆计算，还是包括测试晶圆。

虽然台积电3nm的良率高低还有些令人生疑，但从以下两方面来讲，应该也不会低。

一方面，台积电的工艺一向良率较高，不管7nm还是5nm都是如此，这次3nm依然使用老工艺FinFET，就是为了保证良率。而三星采用新GAA工艺，风险当然也大。

另一方面，从客户的选择来看，大多美企客户依然选择台积电3nm，至少说明台积电3nm良率高于三星。只有高通，因为价格问题，3nm选择使用台积电和三星两家。

要知道，3nm工艺的研发投入非常大，如果没有获得客户使用，那么有可能连成本都收不回来，甚至还在先进制程的竞争上前功尽弃。为此，三星努力地解决良率问题。

在台积电宣布3nm实现量产之前，三星就曾找到一家善于处理良率问题的美企合作，想要改善3nm良率，据说取得了一些成效。如今，台积电3nm量产又透露了良率。

这让三星再次感受到了压力，必须尽快提高3nm良率，不然就会被台积电给碾压了。

于是，在台积电举办3nm量产典礼的大动作后，三星也开始放大招了。近日，据台媒消息，三星将在3nm工艺中采用透光率超过90%的最新EUV薄膜，用以提高良率。

生产薄膜的公司为韩企S&S Tech，三星曾对其注资并获得了8%的股份。该公司是除ASML之外第二家开发出透光率超过90%的EUV薄膜，应三星要求将提高到94%。

薄膜可以防止EUV受污染而导致良率性能不佳，三星采用后有助于稳定3nm良率。

三星曾经在晶圆制造上领先台积电，后来被超过了，3nm终于率先量产，良率又赶不上台积电。为扳回一局，三星只能放出大招，采用高透光率EUV薄膜来拯救良率。

目前，还没有任何晶圆代工厂采用透光率超过90%的EUV薄膜，三星领先采用，能否凭此改善良率，还有待观察。台积电和三星竞争还在继续，孰强孰弱拭目以待吧！