光刻胶又名“光致抗蚀剂”,光刻胶具有光化学敏感性,通过利用光化学反应,并经光刻 工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上。光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,是微细加工技术的关键材料,可广泛应用于 PCB、LCD 与集成电路等下游领域。
光刻胶自 1959 年被发明以来,就成为半导体工业最核心的工艺材料,主要由以下几种分类:
①、IC 光刻胶。主要品种有G线光刻胶、I 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 光刻胶、EUV 光刻胶等
②、LCD 光刻胶。主要品种有彩色滤光片用彩色光刻胶及黑色光刻胶、LCD/TP 衬垫料光刻胶、TFT – LCD 用光刻胶等
③、PCB 光刻胶。主要品种有干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等。
相关产业链个股:
(1)雅克科技:并购布局面板&IC 光刻胶,募投项目加码高端市场
(2)华懋科技:投资徐州博康,半导体光刻胶一体化优势显著
(3)彤程新材:特种橡胶助剂龙头,北京科华+北旭电子打造光刻胶平台
(4)晶瑞股份:中端光刻胶进口替代创造成长空间
(5)上海新阳:光刻胶进入客户验证,定增助力 KrF&ArF 光刻胶实现量产
(6)南大光电:02 专项 ArF 光刻胶研发顺利结项,募投配合实现产业化
(7)飞凯材料:紫外固化和电子化学品龙头,TFT-LCD 光刻胶产能待释放
页面更新:2024-04-25
本站资料均由网友自行发布提供,仅用于学习交流。如有版权问题,请与我联系,QQ:4156828
© CopyRight 2020-2024 All Rights Reserved. Powered By 71396.com 闽ICP备11008920号-4
闽公网安备35020302034903号