禁令还没落地,阿斯麦已发出警告:美国敢封杀光刻机,后果很严重

2026年4月2日,美国国会两党议员把一份名为《硬件技术多边协调法案》(MATCH Act)的提案正式塞进了众议院,参议院版本同步推进。这份法案在4月2日被引入众议院,参议院版本也在同步审议中。和过去几轮华盛顿单方面通过行政命令施压不同,这一次,是国会自己发起新一轮收紧,而非由白宫主导,背后的政治意味值得玩味——共和党与民主党在芯片对华围堵问题上抱团取暖,把对华遏制写进立法程序,目的就是要让禁令的"可逆性"被锁死,哪怕换届也难翻案。法案要求荷兰、日本等盟友强制对齐美国的出口管制,把矛头从EUV延伸到浸没式DUV,还把售后维修和零部件供应这种"维持设备可用性"的环节一并掐断,专门点名中芯国际、长江存储、华虹、华为、长鑫存储这几家中国头部企业及其关联工厂。

设备本身的代差有多大,阿斯麦CEO富凯在5月20日比利时安特卫普的一场科技活动上指出,阿斯麦目前向中国出售的DUV设备,本身就是基于2015年的技术,对应八代之前的芯片技术,如果进一步收紧限制,只会加速中国自主研发替代设备的步伐。这位荷兰人还打了一个相当刺耳的比方——把人扔到沙漠里断了所有口粮,他多久会自己开荒种菜?富凯用了"存亡问题"这种词来描述当下处境。值得注意的是,荷兰政府明确反对这项美国法案,这在过去十几年北约盟友体系里相当罕见。

2026年第一季度,面向中国大陆的系统销售额占阿斯麦总销售额的比例已降至19%,而2025年第四季度还是36%;与此同时,韩国占比从22%飙升到45%,SK海力士那笔创纪录的80亿美元EUV大单成了新接盘侠。中国海关总署数据显示,2026年第一季度中国从荷兰进口的光刻设备同比跳水24.3%。更耐人寻味的是,2026年1月底,阿斯麦宣布裁员1700人——一边业绩创新高,一边大规模裁员,组合非常诡异。这种"业绩好却要裁人"的反差,背后是公司对未来订单结构的悲观预期:现在AI带动的存储和逻辑芯片需求扛起了表面繁荣,但中国大陆这块过去贡献三分之一以上营收的稳定基本盘,正在以肉眼可见的速度蒸发。

就在MATCH法案抛出的二十天后,4月22日北美技术论坛上的一记重锤,让阿斯麦的另一条腿也开始打颤。台积电副共同营运长张晓强公开评价阿斯麦最新High-NA EUV光刻机"非常、非常昂贵",消息一出阿斯麦股价盘中一度重挫5.5%。这台被业内称为"下一代光刻神器"的设备,单台定价高达3.5亿欧元,折合近4亿美元,相较现有量产EUV机型成本翻倍。

问题在于,自阿斯麦在2016年正式量产EUV光刻机以来,这十年间全球累计交付的EUV设备约为309台,其中台积电独占157台,占比50.8%。头号金主直接表态五年内不用,三星于2025年3月率先安装首台High-NA EUV用于1.4纳米生产,英特尔押宝14A工艺,但前者良率问题持续,后者制程重整中多座工厂进度延迟。三家潜在大买家里,跑量最大的拒绝,剩下两家自顾不暇——这台机器卖给谁,成了一个真正的商业难题。

北京手里攥着一张牌,让阿斯麦的供应链命门也跟着发凉——稀土。中国目前已对含0.1%以上中国稀土成分的光刻机相关产品实施严格出口管制,造光刻机的镜头、磁体、激光元件离不开钕、镝、铽这些元素,而全球90%以上的精炼产能都握在中国手里。

你切我的设备售后,我就卡你的上游原料,这种以禁制禁的对等反制,把阿斯麦推到了一个相当尴尬的位置:美国国会要的是政治表态,但承担成本的是欧洲企业的资产负债表。富凯口中那个"夹心饼干"的隐喻,其实是欧洲整个高端制造业未来命运的缩影——在中美科技战的夹缝里,所谓"盟友义务"和企业生存之间的撕扯只会越来越激烈。

2026年3月两会期间,《政府工作报告》在"十五五"规划中,把集成电路与航空航天、生物医药、低空经济并列为新兴支柱产业,量子科技、6G、脑机接口被列入未来产业重点培育方向,这是顶层设计层面的明确信号。紧接着中国科协主办的《科技导报》刊发了一篇引爆全球半导体圈的联名文章,作者阵容堪称半导体界的"梦之队":中芯国际创始人之一王阳元、北方华创董事长赵晋荣、长江存储董事长陈南翔、华大九天董事长刘伟平等九位行业头部人物联名发声,诉求很硬核——以举国之力砸出中国自己的阿斯麦,集中力量打掉EUV这座终极堡垒。九位大佬没有回避产业的软肋,全国几千家芯片企业大多年销售额不足千万的小微规模,这种散沙状态正是被卡脖子的根因。

上海微电子主导的28纳米浸没式DUV光刻机,被业内视为中国近一年最具里程碑意义的突破,2026至2027年产能将达每年100台,国产化率提升至95%以上,覆盖国内70%的成熟制程需求。配套环节也实现了产线级闭环,北京科益虹源的曝光光源、华卓精科的双工件台、长春光机所的镜头、宁波南大光电的光刻胶,这些过去被认为只能靠进口的关键部件,已经在同一条产线里跑通了验证。光源层面更是另辟蹊径,2025年3月中国科学院公开了全固态深紫外激光技术研究成果,能直接发出193纳米相干光,和阿斯麦、佳能、尼康用的氟化氩准分子激光是完全不同的两套思路,这套方案体积更小、能耗更低,理论上具备支撑3纳米制程的潜力。SMEE也已经提交EUV相关技术专利申请,计划于2026年实现量产。

富凯口中那个"存亡问题"的真实指向就清晰了。短期内是阿斯麦在中国市场还能卖多少机器的问题,把视野放长到三到五年,是整个西方半导体设备霸权能否守住定价权的问题。阿斯麦夹在美国出口管制与全球客户之间,很多时候不是单纯"想不想卖",而是受到"能不能卖"的约束。当愿意付钱的客户被排除在外,剩下的少数买家一旦意识到选择权在自己手里,就会在价格、交付与服务条款上更强势地谈判。台积电敢说"暂时不用High-NA EUV",台湾地区"经济部"那些为美国马首是瞻的官员可以不用看脸色,但作为一家上市公司的台积电会算账,阿斯麦给2030年定下的600亿欧元营收目标恐怕要打个折扣

。从2023年荷兰跟进首轮DUV管制,到2024年1月撤销NXT:2050i和NXT:2100i许可证,再到2025年管制范围从7纳米扩到14纳米,再到2026年MATCH法案直接覆盖到65纳米机型并切断售后。美国今天垒起的这堵墙,明天恐怕就是埋葬其自身科技霸权的那座坟。中国芯的突围路上确实布满落石与荆棘,但十四亿人口大国的工业升级路径,从来都不是靠几纸禁令就能拦得住的。

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更新时间:2026-05-28

标签:科技   光刻   美国   禁令   后果   三星   中国   法案   纳米   设备   荷兰   管制   美国国会

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