中国长鑫存储宣布 技术领先三星两年!韩国工程师连夜发帖反击

长鑫的4F²,让三星跌8%、SK海力士跌11%——可韩国工程师冷笑:没有EUV根本量产不了,结果韩国股市当场用暴跌11%给出了答案。

10月10日,上海第四届集成芯片和芯粒大会。长鑫存储总裁曹堪宇站在台上,宣布了一个让首尔和华尔街同时震动的消息:长鑫计划在2026年底前推出采用4F²存储单元架构的DDR5 RDIMM服务器内存,融合自研垂直环绕栅极晶体管与混合键合技术。

消息传出的第一个交易日,三星电子跌8%,SK海力士跌11%。韩国媒体的标题写得很直白:“中国DRAM,越过EUV,直取下一代架构。”

但韩国工程师的回应比股价更值得听。成均馆大学教授权锡俊在社交媒体上指出,长鑫的声明里既没有“量产”,也没有“样品”,应该被解读为“发布公告”,而不是“量产启动”。

他预计有意义的量产规模最早要到2027年底,更现实的时间是2028年上半年。量产服务器DRAM需要跨过的门槛,不是造出一颗芯片,是良率和客户认证。而在良率和客户认证之外,还有一堵墙,比EUV禁令更难绕,那就是基础专利。

当前主流的DRAM存储单元是6F²结构,一个单元占6倍最小特征面积的平方。4F²把单元面积压到4倍,理论密度提升30%到50%。但这不是简单地把现有结构等比例缩小。

传统6F²的晶体管通道是水平放置的,4F²需要把通道竖起来,从根本上改变器件结构。设计规则、工艺流程、器件模型,全都要重写。

长鑫的解法是自研垂直环绕栅极晶体管,配合晶圆级混合键合,在不依赖EUV光刻的前提下,用DUV多重曝光和架构创新实现密度跃升。长鑫自2019年起推进混合键合自主研发,已公开专利数量居全球前十。

在4F²架构上,长鑫自成立起就启动了研究和专利布局,曹堪宇本人披露,公开专利族超过300件,数量领先海内外厂商。

300件专利族,这个数字本身说明长鑫不是没有准备。它知道4F²这条路绕不开专利问题,所以从第一天就在攒筹码。问题在于,攒筹码和赢牌局是两回事。

专利墙在,长鑫的300件,对上的是三星和美光的基础专利。4F²不是一个新概念。三星、SK海力士、美光在这个方向上的研究,比长鑫早得多。SK海力士在2025年6月的IEEE VLSI研讨会上首次公布了4F²技术路线图,计划用于10纳米及以下节点。

三星把10纳米以下4F² DRAM的量产目标定在2028年。美光在DRAM领域的基础专利积累,是几十年持续投入的结果。

美国银行在分析苹果测试长鑫DRAM时,专门列出了三大限制因素,其中第三条就是专利诉讼风险——三星、SK海力士和美光拥有大量DRAM相关知识产权,可能将客户卷入专利侵权诉讼。

这不是针对长鑫一家的警告,是DRAM行业的常态。这个行业在过去几十年里,专利交叉授权和专利诉讼交替出现,头部厂商之间的法律战从未真正停过。三星和Netlist的专利纠纷最终以一份5年8.97亿美元的交叉许可协议收场,Netlist还拿到了三星的股票。

这个价格标签说明了一件事,在DRAM这个领域,专利不是纸面上的权利,是可以被定价的谈判筹码。

长鑫的300件4F²专利族,能不能覆盖三星和美光在4F²基础架构上的核心专利?答案大概率是否定的。基础专利通常指向最底层的结构原理和制造方法,后来的改进专利很难绕开。长鑫可以设计出自己的垂直晶体管,可以开发自己的混合键合工艺。

但只要4F²架构的底层原理指向三星或美光早年申请的核心权利要求,长鑫的产品进入大规模商业化阶段时,就可能触发专利许可谈判或诉讼。

韩国工程师质疑长鑫“无EUV良率极低”,这个质疑有技术依据。DUV多重曝光做4F²,需要多次光刻和刻蚀循环,每一次循环都引入误差累积,良率控制的难度远高于EUV单次曝光。长鑫的DUV四重曝光路线能跑通实验室样品,不代表能在量产线上跑出可接受的成本和良率。

但良率是可以靠工程迭代解决的。长江存储在被制裁后,用DUV和架构创新在NAND领域证明了这一点。长鑫自己在混合键合上的积累,也为4F²的晶圆级集成提供了基础。技术问题假以时日可以攻克,专利问题不会因为工程能力提升而自动消失。

更微妙的是,长鑫的4F²产品瞄准的是服务器DDR5 RDIMM,客户是数据中心和云厂商。服务器客户对供应链的专利合规性审查,比消费电子客户严格得多。

苹果测试长鑫DRAM的消息传出后,美银的判断是,即便苹果用上长鑫的芯片,也只会局限在低端机型,因为“专利诉讼风险可能将苹果卷入纠纷”。如果连苹果都在意这个风险,亚马逊云、微软云、谷歌云在采购长鑫服务器内存时,法务部门的尽职调查只会更严。

专利风险不是长鑫一家的风险,是长鑫客户的共同风险。客户不会替长鑫扛诉讼,他们只会选择不买。

DRAM行业的专利格局,从来不是“谁技术领先谁通吃”。它是一个由交叉授权协议维持的均势体系。三星、SK海力士、美光之间互相持有大量专利,彼此之间通过交叉授权降低诉讼成本。

新进入者要打破这个均势,只有两条路:一是拿出足够多的核心专利,让对方愿意跟你交叉授权;二是准备好打一场持续数年的专利战,同时承担客户流失的代价。

长鑫的300件4F²专利族,是一个开始。但够不够让三星或美光坐到交叉授权的谈判桌前,取决于这些专利里有多少是别人绕不开的,而不是长鑫自己用得到的。数量领先不等于质量领先,专利族的规模不等于专利的强度。

更现实的问题是时间。长鑫计划年底推出产品,2027年到2028年进入有意义的量产阶段。如果在这个窗口期内,三星或美光发起专利诉讼或要求专利许可谈判,长鑫的量产节奏和客户认证进度都会被打乱。

工程团队可以加班解决良率问题,法务团队加班解决不了专利侵权。专利战的节奏不由长鑫控制,由对手的律师团队控制。

长鑫的4F²架构,是在EUV禁令下用DUV和架构创新硬啃出来的一条路。这条路的工程难度极高,长鑫走通了实验室这一段,值得承认。300件专利族说明它没有忽视知识产权问题,也值得承认。

“技术跑通了”和“能大规模卖出去”之间,隔着的不是良率曲线,是专利墙。三星跌8%、SK海力士跌11%,市场在定价长鑫的技术突破。但真正决定长鑫能不能在服务器内存市场站住的,不是股价的跌幅,是法务部的尽调报告。

技术可以绕道,专利不能绕道。长鑫的专利布局跟上了300件,但够不够挡住那堵墙,要等第一批服务器客户的法务签字才能知道。

参考资料:长鑫科技官宣!4F² DRAM架构取得进展 专利数量超过海外厂商 年底将推出相关技术产品——财联社

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更新时间:2026-10-19

标签:科技   三星   韩国   中国   发帖   工程师   技术   专利   量产   架构   客户   服务器   晶体管   风险

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