热转印硅胶膜的制备

热转印硅胶膜的制备方法、应用及该热转印硅胶膜

[简介]：技术提供了一种热转印硅胶膜的制备方法，其包括以下步骤：(1)选择热熔胶膜，该热熔胶膜在120℃至150℃之间熔化；(2)调配覆层硅胶，该覆层硅胶由以下质量份数的组分混合制成：双组份加成型液体硅胶90份、铝酸酯偶联剂0.01份、羟烃基改性聚硅氧烷2?5份、线型甲基氢硅油0.5份、铂金催化剂0.005份、环氧改性硅树脂2?5份、甲苯2.5份；(3)在热熔胶膜上涂覆所述覆层硅胶，涂覆的厚度为5?10丝，烘干，即制得热转印硅胶膜。还提供了一种热转印硅胶膜及该热转印硅胶膜的应用。本技术既解决了当前热转印中使用热熔胶只能单片印刷，从而效率低下的问题，又解决了硅胶直接在普通热熔胶膜上印花牢固度不佳的问题，从而使得硅胶印花可以进行大批量的热转印。