半导体湿制程的关键绿色生产工艺——水基型清洗剂清洗

近日,国务院印发《2030年前碳达峰行动方案》。《方案》围绕贯彻落实党中央、国务院关于碳达峰碳中和的重大战略决策,按照《中共中央国务院关于完整准确全面贯彻新发展理念做好碳达峰碳中和工作的意见》工作要求,聚焦2030年前碳达峰目标,对推进碳达峰工作作出总体部署。

随着碳中和发展方向的提出,湿制程清洗剂对于碳中和的重要性也得到了行业的更加重视,许多光电制造、半导体、整机终端厂商也对此做出了回应。在他们的反馈当中,绿色生产工艺的建设成为了重点,而光电制造、半导体湿法制程中的大量清洗工序则是构建绿色生产工艺的关键之一,水性清洗剂的应用和推广越来越受到供应链厂商和终端厂商的集体重视。

正普公司是中华人民共和国电子制造用、水基清洗剂行业标准主要起草单位,正普公司自主研发超精密环保水基清洗剂,是专为光学、电子行业生产制造用。正普公司坚持科学的管理和严格质量监控,秉承“创新与环保并重”的经营理念,致力于环保水基清洗剂研制与开发,确保了公司产品的各项技术指标均达到国际同类产品的标准,并辅助制造业企业达到绿色生产的环保、节能减排指标。

根据哈佛大学乌迪特·古普塔(UditGupta)团队发表的《追逐碳:计算机难以捉摸的环境足迹(Chasing Carbon: The Elusive Environmental Footprintof Computing)》论文中显示,到2030年,信息和计算技术预计将占用全球能源需求的20%,而硬件所占的碳排放量比系统操作所占的要多。而与硬件使用和能源消耗相比,生产制造是碳排放的主要来源。

而要减少制造过程中的碳排放量,就需要相关光电制造的湿制程生产工艺做到绿色节能减排,而各光电制造厂商也纷纷对此进行了布局。

湿制程(工艺)即制造过程中需要使用化学药液的工艺,被广泛使用于集成电路、平板显示、太阳能光伏等领域的制造过程中。以集成电路领域为例,晶圆制造过程共有七大工艺步骤,分别为氧化/扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、清洗与抛光、金属化。其中,湿制程清洗步骤所对应的专用材料就包含了正普公司研发生产的先进水性清洗剂。

半导体湿制程的关键绿色生产工艺——水基型清洗剂清洗

事实上终端厂商也供应链在积极推广绿色、环保、节能制造理念。全球知名的汽车厂商宝马汽车近些年来就一直携手上游供应链厂商,合作开发PCB、PCBA、半导体芯片的绿色生产工艺制程,在新的绿工艺中引进前即完成更环保、节能的材料设计验证,在与湿制程使用水性清洗剂,扩大先进材料的节能、减排效果,成为全球主要要求供应商对先进工艺导入绿色环保、节能材料的汽车企业。

还有消费电子产品巨头苹果公司多年来也一直在推行供应链绿色生产,并且每一年都会对供应商的绿色生产进行监督审查,对于能够实行绿色生产的企业,还会了更多的订单倾斜,甚至有产品补贴等。在这些企业推行绿色生产过程中,正普公司利用先进的水性清洗剂产品,帮助相关企业达成了核心生产工序的绿色生产指标审核。而这也代表着,与先进工艺相关的水性清洗剂不仅要拥有先进技术,还要满足绿色环保节能的需求。

在中国大力发展实体制造业的今天,绿色节能减排同样是这个产业在发展过程当中绕不开的一个主题。我们也看到,近些年来中国市场针对减少碳排放的一系列举措。在实现碳达峰碳中和对节能降碳工作要求中的内容提到,绿色、环保、节能是推动产业结构调整优化的重要举措。产业结构偏重、能源效率偏低是我国实现碳达峰、碳中和的难点所在。要进一步发挥绿色、环保、节能提高能效的倒逼引领作用,严格控制增量、调整优化存量,加快推动产业转型升级,促进我国产业发展向中高端迈进。

半导体湿制程的关键绿色生产工艺——水基型清洗剂清洗

5G、汽车电子、人工智能、工业物联网等新兴产业的到来则是促进全球产业升级的一个时期。而这些新兴领域在国内的迅速发展,也促使国内市场对绿色生产工艺需求迅猛增长,这也就推动了实体制造业对于湿制程先进水性清洗剂的需求。

从我国半导体设备发展的情况来看,根据SEMI的统计数据,2020年全球仅半导体设备销售额达到712亿美元的历史新高,同比增长19%。分地区来看,中国大陆首次成为全球最大的半导体设备市场,销售额同比增长39%,达到187.2亿美元。

半导体湿制程的关键绿色生产工艺——水基型清洗剂清洗

因此,对于我国来说,在半导体湿制程上选用绿色、节能、环保的水性清洗剂也是实现碳达峰碳中和的重要一份子。同样,这种趋势也为国内半导体设备厂商、半导体生产厂商和终端整机厂商带来了机会。

以先进水性清洗剂起步的广州正普化工有限公司是一家集研发、生产、销售水基系列清洗剂的专业公司。发展到今天,正普公司的产品已经被集成电路板制造(PCB),集成电路板封装(PCBA),封装及晶圆清洗,半导体元器件制造,摄像头模组生产,通讯,光学,汽车零部件制造等领域的超精密清洗。服务客户遍及电子电气,仪器仪表,塑胶,五金机械,医疗器械,航空航天等行业广泛使用,成为光电制造业绿色生产工艺的重点主导原材料供应商。

半导体湿制程的关键绿色生产工艺——水基型清洗剂清洗

我们都知道,新晋供应链厂商要想打开被巨头企业所占据的湿法制程市场并不是一件容易的事。在探究正普公司的产品为什么会被市场所认可之时,绿色、节能、环保这些关键词受到了我们的注意,而这也是正普公司能够迅速打开湿法制程市场的“秘密武器”之一。

据了解,在制造业产品不断升级过程中,国内外一线品牌先于市场采用更精密的电子元器件,其供应链中的核心供应商大都采用了正普公司的环保水基清洗剂产品。

随着光电产品越来越精密,正普公司的技术与工艺服务,彻底解决了国内外一线品牌产品升级后的清洗效率与良率难题,并且由于水基型清洗剂产品没有污染排放,无需后续大量的废水、废气排放处理工程,在绿色、环保、节能方面,为制造业节省了大量的投资、人力与运营成本,极大的提升了制造业厂商的竞争力。

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页面更新:2024-03-31

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