中国芯迎来大转机!芯片制造两大设备突破,西方打压套路迅速上演

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近年来,我国半导体产业一直在努力,但由于差距太大,目前依然相对落后。目前,我国的芯片主要依赖进口,每年的芯片进口甚至超过了石油,在进口商品中位列第一。

中国芯迎来大转机!芯片制造两大设备突破,西方打压套路迅速上演

尤其是今年5月,美国再次颁布对华为的新禁令,这次直接对准了我们的软肋,要切断华为的芯片供应链。这让台积电不能给华为代工高端芯片,会让华为业务陷入困境。这也突显了我们芯片制造上的严重不足!

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那么,在芯片制造上,我们究竟差在哪儿,如何进行破局,其中又面临着什么困难?下面,我们先从芯片是如何制成的开始说起。

芯片到底是如何制成的

芯片制造过程非常复杂,我们简单了解下。芯片生产其实是一个点砂成金的过程,从砂子到晶圆再到芯片。首先,要从熔态硅中拉出晶圆并切片,获得晶圆。

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其次,将感光材料均匀涂抹在晶圆上,利用光刻机将复杂的电路结构转印到感光材料上,被曝光的部分会溶解并被水冲掉,从而在晶圆表面暴露出复杂的电路结构,再使用蚀刻机将暴露出来的硅片的部分刻蚀掉。

然后,经过离子注入等数百道复杂的工艺,镀铜后再切削掉表面多余的铜,就能将数以亿计的晶体管连接起来。经过测试、晶片切割和封装,就得到了我们见到的芯片。

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由此,我们可以看到,芯片制造中要用到三个设备:光刻机、蚀刻机、离子注入机,这三个是芯片生产过程中,必须要用到的关键设备,要想制造高端芯片,这三个设备也必须达到高端。

芯片制造两大设备突破

为了攻克芯片制造,我国从多方面不断努力,尤其是这三个关键设备,多年前就开始努力,现在均取得一定成就。尤其是中微半导体,突破了5nm蚀刻机,达到国际领先水平,并已用于台积电今年的5nm芯片生产中,另外两大设备也取得重大突破!

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光刻机方面:上海微电子传来好消息,将于明年开始交付国内首台28nm浸没式光刻机。此前仅能生产90nm光刻机,现在一跃进入28nm,可以说是重大突破!

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离子注入机:中国电子科技集团宣布,由该集团旗下电科装备自主研制的高能离子注入机成功,实现百万电子伏特高能离子加速,性能达到国际先进水平

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光刻机和高能离子注入机的成功,都是从无到有的突破。这两大设备成功后,将使国内芯片制造再进一步,能够生产更多范围的芯片,减少一大部分对国外的依赖!有外媒评论道:这些设备的突破,让中国芯迎来大转机!

西方打压套路迅速上演

为了扼制我国高科技的发展,西方组织了42个国家参与的《瓦森纳协定》,以此在技术和设备方面来限制我国。像中芯国际于2018年订购的荷兰ASML的EUV光刻机,就因为美国以此阻挠,至今未到货。

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不只是利用这个协议,西方还有一个惯用的打压套路,就是在我们没有时,他们狮子大开口要价,当我们攻克后,他们就狠狠降价,让你的产品失去竞争力,无法再继续前进,最终达到垄断市场!

最近,有消息传来,上海微电子刚突破28nm光刻机不久,荷兰ASML马上将他们的同款光刻机大幅降价,意图率先抢占国内市场,这直接让没有出厂的上微光刻机瞬间丧失优势和市场,严重影响出货量不说,甚至有可能连研发成本都不够!

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西方为了打压我国高科技发展,一向如此,这样的例子数不胜数。像蚀刻机,之前美国对我们进行技术封锁,限制蚀刻机设备对我国出口,等中微半导体突破蚀刻机后,他们就迅速解除限制并降价销售。

结语:芯片设计方面,华为海思的水平已经达到全球领先水平,除了海思还有很多的芯片设计公司,差不多有1400家左右,像紫光展锐、寒武纪等。主要就是差在芯片制造,不过我们还有中芯国际,其水平现在已经达到全球第五。

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虽然中芯国际制造水平跟台积电、三星还有差距,但连全球第三、四名都放弃了先进制程研发,而中芯国际现在一直在努力,尽管先进制程几乎没有创造利润。

尽管我们的光刻机还有很大差距,但我们必须支持国产,尽管他们还不是特别优秀,但只要给他们机会,他们一定会更优秀,最终受益的还是我们自己及子孙后代!


那么,大家对西方惯用的打压套路是怎么看的,尤其是荷兰ASML降价打压?

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页面更新:2024-05-28

标签:三星   套路   芯片   华为   光刻   感光材料   设备   荷兰   高科技   美国   转机   离子   差距   水平   努力   我国   科技

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