“国产芯”崛起两大难题:光刻机是重点,自研架构是关键

国内半导体行业可谓是一片“凄凉”,根据相关数据显示,2019年我国芯片自给率仅有30%左右,换而言之,其他70%的芯片都要从国外进口。近些年,华为公司的不断崛起,威胁到了美国科技霸主的地位,美国就对华为进行了三轮制裁,而这三轮制裁几乎都与半导体有关,尤其是第三轮制裁,美国彻底断供了华为的芯片,因此,提高国产芯片的自给率显得尤为重要。

“国产芯”崛起两大难题:光刻机是重点,自研架构是关键

光刻机是重点

光刻机是生产芯片最重要的一个设备,目前,全球唯一一家能生产高精度光刻机的公司是荷兰ASML,全球唯一一家能使用极紫光刻机生产5nm芯片的公司是台积电,很显然,这两个唯一中国都不沾边。截至到现在,国内能生产的最高精度光刻机是28nm,是由光刻机巨头上海微电子制造的,对手机芯片来说,28nm精度的光刻机真的不能再落后了,对电脑等其他设备来说,还是蛮先进的。

“国产芯”崛起两大难题:光刻机是重点,自研架构是关键

研发光刻机真的那么难吗?答案是肯定的,很难。光刻机制造技术几乎汇聚了世界各国顶尖技术,称之为世界最顶尖工程也毫不为过,EUV光刻机整体有13个子系统,组装一台需要10万余个零件,重200吨左右,就连ASML公司一年也只能生产20台左右,由此可见,生产光刻机真的很不容易。

“国产芯”崛起两大难题:光刻机是重点,自研架构是关键

前段时间,网上曾爆出,华为在2016年就已经申请了一项光刻设备和光刻机的专利,最近,华为也在网上积极招聘“光刻工艺工程师”,由此可以推断,华为已经提前部署光刻机了。

“国产芯”崛起两大难题:光刻机是重点,自研架构是关键

自研架构是关键

虽说华为已经成功发布了自己的海思麒麟芯片,但是麒麟芯片的基于ARM公司的架构设计的。何谓架构?即指令集架构,通俗来讲,就是指令集就像一套语言系统,CPU能够读懂并按要求运行程序和硬件。目前,市面上流行的基础架构有ARM、X86、RISC-V和MIPS四种,其中X86属于复杂指令集,ARM、RISC-V和MIPS则属于精简指令集。

“国产芯”崛起两大难题:光刻机是重点,自研架构是关键

一直以来,市面上超9成的服务器芯片都采用X86架构,随着智能手机的流行,ARM迅速占领了移动市场的份额,但PC市场还是X86为主。美国断供华为芯片,还有一个重要原因就是ARM的架构使用了美国技术,要想真正实现国产芯片“独立”,就必须研究出自己的基础架构,或者说是ARM能实现技术独立,取代美国的半导体技术,相比较而言,后者更容易实现。目前,华为的鸿蒙生态系统逐渐趋于成熟,相较于三星,华为麒麟芯片的独立性更强。

“国产芯”崛起两大难题:光刻机是重点,自研架构是关键

​写在最后

所以说,“国产芯”要想在2025年达到自给率70%,就必须解决好“光刻机”和“自研架构”这两个关键问题,现如今,5G的高速发展,手机芯片的需求远远高于电脑芯片,尽快研制出高端光刻机才是硬道理!

对此,你有什么不同的看法吗?欢迎评论区留言讨论

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页面更新:2024-05-19

标签:光刻   架构   麒麟   华为   紫光   美国   市面   半导体   精度   难题   芯片   手机芯片   独立   重点   关键

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