央视正式确认！又一关键芯片制造设备迎来突破：事关EUV光刻机

【7月12日讯】相信大家都知道，我国科技产业在芯片、操作系统这两大核心技术领域，一直都没能够取得太大技术突破，所以我国科技企业一直都不可避免地遭受到“卡脖子”威胁，其中荷兰光刻机巨头—ASML公司，更是放下狠话，即便ASML公司对外公开EUV光刻机设计图纸，中国也无法进行“山寨”，确实EUV光刻机有着人类工业史上的"皇冠"美誉，内部零部件就高达数十万颗，来自于全球5000多家顶级供应商，才让荷兰ASML公司能够制造出完整的EUV光刻机，所以仅仅凭借一个国家的力量，确实也是很难将所有的核心技术掌握在自己手中，但即便如此，我国依旧也在不断攻克光刻机各项技术节点，不断地积累光刻机的核心技术，其中我国的光刻机制造巨头—上海微电子更是肩负起国产光刻机制造的重任，而华卓精科、科益虹源等企业也为上海微电子提供双工件台、激光技术等；根据相关人士透露，我国首台28nm浸润式国产光刻机即将在今年量产下线。

而就在近日，央视官方再次传来了好消息，那就是我国首台高能光源进入到了设备安装阶段。这项光源技术由中科院高能物理研究所参与研究，可以实现实现了高能同步辐射光源设备的安装运用，而这种SSMB光源有望解决光刻机光源核心技术难题，也是目前全球亮度最高的第四代同步辐射光源之一；

根据官方信息确认，这一光源技术已经实现了全国产化，未来还可以广泛应用到各种场景之中，其中就包含了光刻机设备，要知道EUV光刻机最核心的技术就是EUV光源，而如今清华大学所研发的稳态微聚束（SSMB）也有希望解决未来国产EUV光刻机的光源技术，对国产光刻机不仅仅可以解决光源问题，同时也可以避免国外依赖，取得更大的行业话语权，意义非常重大。

不仅仅在光源技术方面取得重大突破，央视方面还确认，又一事关EUV光刻机的关键设备迎来突破，它就是中国电科所研发的离子注入机，目前也也取得了重大技术突破，即便面对再大的困难，我们依旧没有放弃自主研发，相信我们的国产光刻机也一定可以打破先进技术壁垒，迎来逆袭崛起的新时代。

最后：对于我国光刻机技术不断确定重大技术突破一事，各位小伙伴们，你们觉得我们的国产光刻机是否有机会后来居上，成功实现逆袭反超，让“缺芯少魂”时代彻底成为历史呢？欢迎在评论区中留言讨论，期待你们的精彩评论！