华为芯片被限制，加上全球芯片短缺，半导体行业受到了前所未有的关注。华为芯片无法生产，原因之一是高端芯片生产所用到的EUV光刻机被海外巨头垄断。但芯片的制造不仅仅要用到光刻机，其用到的设备是非常多的，其中一项关键设备中国实现了突破！

国产蚀刻机的突破

芯片制造的过程中，光刻、蚀刻与沉积是三大关键工序，而在蚀刻工艺中要用到的设备就是蚀刻机，其重要性不亚于光刻。蚀刻机同样被海外巨头垄断，但是近年来我国在蚀刻机领域的进步巨大，蚀刻机设备的国产化率已经接近30%。

中微半导体就是我国蚀刻机领域的代表性企业，也是在技术上走在前沿的企业之一，已经是全球半导体蚀刻机的五大供应商之一。2020年，中微半导体的5nm蚀刻机已经打入台积电的5nm生产线。

中芯国际、联电等芯片制造企业也是中微半导体的客户，全球排名前十的晶圆代工厂中，中微半导体已经进入六家。

13年的追赶！

2004年，已是花甲之年的尹志尧博士创立中微半导体公司，在2017年突破了5nm蚀刻机技术，一举达到国际先机水平。实现这一追赶，中微半导体用了13年。

中微半导体在崛起的过程中还需要面临海外巨头的打击，中微半导体的创始人尹志尧博士曾经在应用材料等半导体巨头任职。中微半导体的崛起引起了应用材料、科林半导体的注意，二者以窃取商业机密为由，多次将中微告上法庭。

但是尹志尧博士和他的团队回国的时候就已经做好了准备，没有从“老东家”带回一张图纸。在研发时也刻意绕开了它们的技术，所以在诉讼过程中，中微半导体能够立于不败之地。

2020年，在访谈节目中尹志尧博士表示，过去16年，中微半导体花费了20亿人民币，才有了今天的成就。从一个十几人的小团队到国际一流的蚀刻机企业，中微这一路走来并不容易。

华为的底气！

像中微半导体这样的中国公司还有很多，可能它们的成绩没有这么斐然。但是中国半导体行业的共同努力才是华为王者归来的最大底气！中国强“芯”路已经迫在眉睫，早一天突破芯片制造的瓶颈，我们就能早一天摆脱“科技霸凌”。

目前我国最先进的光刻机是上海微电子的90nm光刻机，这和目前全球最先进的EUV光刻机的差距至少是10-20年。蚀刻机从65nm到5nm的突破，我国用了13年，光刻机的追赶我们可能需要十几年甚至更久的时间。

但我们有信心交上一份满意的答卷，就像当年蚀刻机的突破一样！中国，将来一定会成为世界芯片领域先进的国家！