上海微电子28纳米和14纳米光刻机最新进展，令人振奋

中芯国际刚刚公布了今年第一季度的财报，营收和利润双双大幅度增长，这在大家的预料之中，在全球芯片短缺的大背景下，预计本季度中芯国际还将继续保持高速增长的势头。

但这种快速的增长当中还是有一些隐忧，中芯国际也表示，由于采购美国相关产品和技术时受到限制，今年下半年依然面临不确定风险。而且从技术节点上来看，40nm及以上制程是主要的收入来源，28nm和14nm工艺占收入的比重不足7%。打造和完善国产芯片产业链，突破高端芯片领域“卡脖子”的难题，对中芯国际等国内半导体企业的持续稳定发展，仍然十分关键。

芯片的产业链非常庞杂，我们在设计、封测等领域已经有一些局部突破，比如华为在芯片设计上已经可以和高通、苹果等领先企业相媲美，但在芯片制造方面，由于受到众多设备、材料和复杂工艺的影响，自主生产的能力还非常弱。导致美国一纸禁令，就能让华为设计的高端芯片无法生产，其智能手机等消费者业务陷入困境。

鉴于此，大家对于芯片的国产化，最关心的就是芯片制造设备的国产化，这其中最主要的就是光刻机。一是因为光刻机是芯片制造最为关键的设备之一，二是因为这也是当前被“卡脖子”的设备，中芯国际订购的ASML公司EUV光刻机无法发货，已经严重影响到了7nm以下的先进制程工艺研发。

于是乎，很多人都希望先进的国产光刻机能够尽快面世。中科院去年提出要“把卡脖子清单转化为任务清单”，集中精力解决一批“卡脖子”的难题，其中光刻机就被作为例子专门提了出来。

在我国光刻机设备领域，实力最强的当属上海微电子设备公司了，目前已经实现了90nm制程的光刻机量产，并且去年就有消息透露，上海微电子将在今年上半年推出28nm的光刻机，可能会交给中芯国际试用。

如今已经是五月中旬，上海微电子的28nm光刻机进展如何，却迟迟没有官方的正式消息。有人猜测可能是在光源或者光学模组上面遇到了困难，也有消息称28nm的光刻机可能会在下半年才能下线。

不过，最近日经亚洲一篇关于我国芯片产业链实力调查的文章，终于透露了上海微电子28纳米和14纳米光刻机最新进展，不但28nm光刻机要来了，甚至14nm光刻机也已经突破，情况确实令人振奋。

根据芯东西援引的调查文章，在前不久的上海国际半导体展（SEMICON China 2021）期间，通过对国内20余家半导体设备厂商的调查采访，发现我国的半导体产业链主要还是集中在一些成熟制程产品，有关设备相比先进制程芯片生产设备要落后两到三代，这是现实的差距。但也有一些令人欣慰的消息。

比如在半导体制造中非常关键的设备刻蚀机，中微半导体完全实现了用于14nm和28nm芯片生产的设备量产，并且已经能够提供用于5nm芯片生产的刻蚀机了，还获得了台积电的认可和支持。上海微电子的支柱产品虽然还是90nm制程的光刻机，但有关工程师表示，“用于28nm和14nm芯片生产的光刻机成品率还有提升空间”。这也意味着，用于28nm和14nm芯片生产的光刻机都已经造出来了，只不过成品率还没有达到预期，还在完善和提升中。

这当然是令人振奋的。差距虽然还是很大，但至少我们可以做出来了，这就是对付“卡脖子”的重要砝码，我们在短期内就获得了之前多年时间都未曾取得的重大成绩，如此快速的进步也让我们看到希望就在前方。

实际上我们的进步，ASML这些光刻机巨头也是看在眼里的，它们的内心也会着急，担心一旦我们技术突破追赶上来，它们或将失去大量的市场。所以ASML最近也频频主动示好，包括在国内投资售后工厂、与中芯国际达成了采购协议延长、努力寻求向中芯国际出货EUV光刻机，等等。

最近ASML的负责人还表示，对中国的芯片出口禁令，伤害最大的恰恰是欧美半导体行业，他甚至预测，15年之内，中国将会追赶上来，有能力生产任何产品。

虽然我们能不能在15年内追上ASML还不敢确定，也不能因为有一点点进步，就否认国产芯片供应链还有相当长的一段路要走。但上海微电子在14nm光刻机上的突破，还有前不久龙芯公司潜心二十年推出的自主指令架构集，都进一步说明，只要我们能够坚持不懈地努力，“卡脖子”的难题终究会一个一个地被解决掉。

解决掉一个，我们的主动权就会大一些，底气就会足一点。