日本巨头公开表态,ASML始料未及,EUV光刻机会被替代吗?

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ASML慌了

近年来,随着半导体行业科水平猛进,光刻机逐渐成生产各类高性能芯片的核心工具之一。然而,由于该行业存在着极高的技术门槛以及专利壁垒重重,全球范围内的光刻机市场长期以来一直荷兰的ASML公司独占鳌头

2023年面对来自国政府的压力和作伙伴日本荷兰的制,ASML公司的垄断态势开始受到严峻挑战。


这样时代背景之下,荷兰ASML公司有可能被迫时性止向客户提供售光刻机的后续维修保养服务

值得注意的是,我国早已从ASML公司购入了约1000台高端光刻机,如果ASML决定中断相关服务,势必会导致我国引进的光刻机在使用过程中出现问题时得不到有效解决从而沦为无用的品。

令人欣慰的是,此紧要,日本佳能公司却突然宣布成功研发出了EUV光刻机替代解决方案,这无疑是一的技术突破对此,ASML公司感到前所未有的压力,中国也迎来了难得的历史契机。

在这一特殊时刻,日本佳能公司告其成功研发出EUV光刻机替代解决方案的消息全球半导体产业界引起了广泛关注。佳能公司此次取得的技术突破有打破ASML在高端光刻机领域的垄断地位,为全球半导体产业的未来发展带来新的机遇挑战。

光刻机的作用

光刻机作为一种尖端设备,主要应用于各类微型芯片的精密作之中其至关重要职责便通过光束投射的方式,预先设计好的芯片图案精确地复制并转移至相应的晶圆表面

整个光刻工艺流精密复杂,包括前期筹所需之膜材料与晶圆得进行合理的规划以及后续步骤中的曝光、显影、蚀刻及最终的清洗等环节

光刻机的精稳定性能堪称芯片制作过程中的灵魂所在现代光刻机采用高度集成的光学系统与自控系统,以确保每一片芯片生产出来的质量及其稳定性都能得到充分保证。显而易见,光刻机在芯片制造过程中扮演着举足轻重角色已然成为当今电子信息产不可或缺现代化设备之一。

尽管着光刻机运作原理似乎颇为浅显易懂但要真正实现起来却并非事。举例来说,就连最尖端极紫外线(EUV光刻机,所需的零部件数量竟然多达惊人的10万余件这其中涉及到的国供应商更是遍布全球各地,近五千家以上。更为令人瞩目全球范围内在该领域拥卓越实力阿斯麦尔公司仅占全部技术零部件来源的90%以上,其中约四分之三左右来自全球高达逾二十个不同的国家。

值得注意,在当前错综复杂的国际环境尤其是中美科技竞争背景之下,阿斯麦尔公司的自主营权限已美国方面重设。

在美日荷三国签署的相关协议生效后,该公司曾一度限制约束,以至于有些影响到等及低端的深紫外(DUV光刻机产品线。不过幸亏一些业及时出面调解,荷兰政府对此做出响应,决定将对阿斯麦尔的禁令缓冲期延长2024年1月1

众所周知,我现阶段半导体市场对于各种设备需求量巨,需进口相关设备比例相当高。在此背景下阿斯麦尔公司频繁公开表态大力支持在华业务,无疑瞄准这块巨大的市场蛋糕。

遗憾的是,韩反复无常行为最终适得其反导致自身被剥夺了永久性豁免权。如今,中业对此已高度警惕加快寻求自主化解决方案步伐。在此情况下,美国企图“芯片倾销”政策的阴谋显得并不现实

研发最新技术来替代EUV光刻机。

1996年份以来,在美国秘密策划之下,策动西方33个国家签了《瓦森纳协定》。这份议的首任务制定并实施全面的型管措施以及信息交换规这些措施涵盖常规武器两用物品各类技术出口等相关领域,其目的在于约和抵制东方诸国科技产业的发展势头。

荷兰,作为代表西方阵营的重要成员,自然亦在这33个签约国家之列。根据该协定缔约必须严格执行所有条款,因此荷兰公司阿斯麦的出口自由受到严重限制尤其涉及EUV光刻机的销,更被明确禁止向中国进行销售。而这一行为使得我国科技产业长期深陷被技术封锁垄断的困境


是的,您到的并非虚言实际上很早以前,美国就在各种方面试图限制我们的发展。自从,我们频繁到有关中芯国际如何遭到美国限制以及华为这家私人企业如何遭受美国打压消息。

然而早在多年以前,中美两国间的科技便已然拉开序幕,只是由于那段众的整体认知程度相对较低,加之此事并未得到充分披露故许多人都对此一无所

如今随着水平的提高,越来越多人原委美国这种行为卑劣。特别是当中芯国际华为成为美国瞄准的目标时,更是引全体极大愤慨和对声音

尽管形势严峻,但消息是,EUV光刻机在经过长期的全球垄断,终于迎来了转折点。家纷纷意识到独立研发的要性,他们再也无法忍受在美国阴影的生存方式,更为无法接受因美国的限制导致各国科技产业裹足不前

纷纷投入新技术研究开发工作力图实现技术越以取现有的EUV光刻机,从而全方位摆脱对美国技术的过度依赖

显然阿斯麦公司所始料及的,同样也是美国万万没有想到的结果。甚至于美国自身的本土企业,积极探索先进的技术替代现有EUV光刻机。


纳米压印

现阶段浸式光刻机的研发与制造领域中全球范围内仅有尼康与阿斯麦尔(ASML)具备强大竞争

其中,EUV光刻机的唯一供应商,亦为阿斯麦尔值得注意的是,尼康佳能两光刻机制造商所交付的产品主要服务于成熟制程芯片的生产环节然而他们在全球市场所占据比例共计仅约为10%;相比之下阿斯麦尔凭借其卓越表现,独鳌头,占据了全球市场份额的高达90%实可谓是垄断性的地位。

这份垄断源于阿斯麦尔对全球集成电路制造商的控制力度之大,如何突破这一瓶颈,采式以改变当前的市场格局,逐渐成为了业界共同关注话题
就在今年的十,佳能公司对外宣布即将推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备。
,佳能公司旗下纳米压印光刻(Nano-Imprint Lithography,简称NIL)技术已成功实现最小线度达14nm的图案化

值得强调的是这个数据与为领先的逻辑半导体所需达到的5nm节点水平相当接近。此外,据相关报道称,随着掩模技术的持续改进,NIL技术甚至望实现在较短时间内实现最小线为10nm的电路图案设计从而符合2nm节点的要求


实上,纳米压印(Nano Imprint)的概念最早资深华裔科学家周郁(Stephen Chou)教授于1995年首次提出。
根据可靠消息显示,纳米压印技术作为一种非常重要的米/米级加工工艺其核心原理是基于传统机械模具微复型技术

而言之相较于传统光刻设备将电路图案直接映至有抗蚀剂的晶圆上,纳米压印技术是使用具预先雕刻好的电路图案版,透过物理力使其迹清晰地显现出来,并逐层叠加并固化于晶圆上的抗蚀剂之中。

通过这种方式以类似于印章盖在橡皮泥表面之后产生的效果脱模处理即可得到一枚完整的芯片。可以毫不夸张的说,纳米压印技术的业化进程对于现有芯片制造行业的垄断结构,具举足轻重现实意义

日本半导体巨头尼康

事实上,并不仅仅是我科技企业希望突破EUV光刻机的限制,ASML公司以及其竞争对手在这方面也都已经付出了大量的努力和研究工作

,日本著名的半导体制造商——尼康传来喜讯他们所研发的基于纳米压印(NIL)技术的芯片制造设备,能够成功规避EUV光刻机的制约进而得以生产出2纳米级别的芯片产品

对比于EUV光刻机而言,NIL技术更像一种立体雕刻”或者“盖章打印”的过程,轻松地将电路图案直接在晶圆表面。技术的优点十分包括易于操作、制造成本相对较

它同样存在着一些难以忽视的不足之处,那便是合格产出比例相对较低。虽然现阶段该项技术仍然处于发展阶段,尚完全完善,但是其问世无疑给了我们这样启示——或许可以通过避开EUV光刻机来取得成功。

2004年以来,佳能公司便开始投入到NUL技术的研发之中至今已经长达20年研发积累。而其高理人员则定地认为,NIL有望在未来成为取代EUV成为一代芯片制造领域的主技术。

佳能已推出了FPA-1200NZ2C纳米压印光刻机新品该机器具备同于5纳米工艺的能力随着未来进一步改进与升级,还有可实现2纳米级芯片的生产

尤其值得一提的是,目前诸如凯侠、SK海力士等多家知名芯片制造商已经开始广泛运此项技术,只是由于到严格的芯片出口管制规定的限制,佳能并未能将这款全新的NIL光刻机设备推广至我市场销售


传统光刻机会被替代吗?

作为全球瞩目的半导体设备制造业巨头荷兰阿斯麦(ASML)以其卓越研发能力以及独特的市场地位闻名遐迩。

世界知名的大型半导体商,如业界领军企业英特尔公司、三星电子株式会社及中国湾地区的半导体制造大厂台积电有限公司等,无不对阿斯麦出品的光刻机设备情有独钟,并建立长期稳固的合作阵营。

这种特殊而紧密的合作伙伴关系不仅为阿斯麦赢得了极高的声誉更为其在全球半导体设备领域奠定了坚实基础扮演不可或缺的角色

近年来佳能纳米压印设备的日益崛起却令市场格局悄然生变,令人深感意外。面对这一突如其来的变,外媒不由感叹:“ASML,你是否已经再需要EUV光刻机

那么,未来EUV光刻机究竟能否遭遇取代?理论推断,确实存在这样的可能。毕竟无论采用何种方式进行芯片制作——线曝光图案或者芯片,最终的效果都是相同的。正因如此,人们不禁要问,为何众多客户竟仍然对阿斯麦的光刻机情有独钟呢?纵使佳能的设备成本相对较低,耗更小,操作起来更便捷,假如佳能能够证充足的产能,同时得到业内广客户的认可与实践检验,或许半导体制造商争相选择与佳能展开业务往来

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页面更新:2024-02-15

标签:光刻   压印   佳能   荷兰   始料未及   日本   美国   半导体   纳米   巨头   芯片   机会   技术   公司

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