光刻机出口管制下月生效，ASML 亮明态度！中国芯片制造持续发力！

荷兰ASML公司是一家全球领先的半导体制造设备公司，总部位于荷兰的瓦赫宁根（Veldhoven）。ASML是一家重要的高科技公司，专注于设计、制造和供应半导体芯片制造设备，特别是光刻机。光刻技术在半导体制造中起着关键作用，它用于将芯片上的图案投影到硅片上，从而制造出微小的电子元件和电路。ASML是全球最大的光刻设备制造商，其先进的光刻机在半导体行业中有着绝对的垄断的地位。因此，世界上所有芯片生产商都要向其购买光刻机，中国当然也在其中，但目前受限于美国芯片法案，要对中国实行技术封锁，中国大陆目前已无法采购最先进的极紫外EUV光刻机。尽管荷兰ASML于2018年就同意向中国领先的晶圆代工厂中芯国际提供EUV光刻设备。在美国的压力下，荷兰政府现已裁定这份合同现在永远不会履行。

荷兰政府光刻机出口管制的法案将从今年9月1日开始生效

荷兰政府颁布的最新政策将更为严厉，不仅要对中国禁售最先进的极紫外EUV光刻机（用于制造7纳米及以下的高端芯片），也要对深紫外DUV光刻机（用于制造28 纳米，14纳米芯片，也是目前国内主流成熟技术）进行限制出货。由于这些出口管制法规，ASML 需要向荷兰政府申请其最先进的浸入式 DUV 光刻系统（TWINSCAN NXT:2000i 及后续浸入式系统）的所有发货的出口许可证。荷兰政府将决定是否授予或拒绝所需的出口许可证，并就任何适用条件向该公司提供进一步的详细信息。ASML 声称将继续遵守适用的出口法规，包括荷兰、欧盟和美国法规。

荷兰ASML生产的极紫外光刻机，每台售价高达10亿元。

外媒：中国芯片制造自主化，举步维艰

荷兰政府的出口管制只针对最先进的光刻机系统，也就意味着中国只能购买其他 ASML 老式光刻机系统。所以外媒觉得，中国的芯片制造将面临巨大挑战。比如，中国光刻机制造商上海微电子设备公司（SMEE）将不得不在本地采购关键零部件。那会很困难。IDTechX 分析师 Yu-Huan Chang 表示，中国第一大晶圆代工厂中芯国际需要七年时间才能赶上当今的技术领先者。

限制芯片原材料出口，中国正在反击

面对欧美的技术封锁，中国也没有坐以待毙。7月3日，中国将限制两种制造芯片的关键金属——镓和锗——的出口，以反击美国、荷兰和日本限制一些先进光刻机系统的出口。尽管中国对原材料的控制——例如，其原镓供应量占全球的95%——芯片公司在最近的季度收益报告中对即将到来的限制保持相对沉默。比如，恩智浦半导体等欧洲领先芯片制造商很少在财报发布或分析师后续电话会议中提及中国即将实施的原材料限制。ASML也表示，这些措施不会对该公司 2023 年的前景或长期前景产生“重大影响”。

但这并不意味着不会产生任何后果。

研究公司 Wood Mackenzie 的分析师在 7 月初的一份报告中写道，由于中国的镓和锗生产商必须寻求出口许可，这在很大程度上取决于许可程序的严格程度，该报告的标题为：“芯片战争：事情的迹象”来吗？报告称：“如果许可程序限制向中国境外芯片制造商供应原材料，这将影响包括电动汽车在内的下游最终用途市场。” 这让人回想起 2020 年和 2021 年的芯片短缺，导致汽车交付的等待时间增加。然而，更令人担忧的是，当前的限制只是更大规模升级贸易战的开始。Wood Mackenzie报告称：“令人担忧的是，这种保护主义可能会升级到其他关键材料终端行业。”

ASML：中国自研光刻机，将破坏全球芯片产业链

ASML一直有一个顾虑，那就是这些管制措施会让中国加快国产光刻机的研发，并直言其制造原理在中国也是一样的。值得注意的是，ASML 起初并非是这样的态度，而是认为即使向中国公开光刻机图纸，中国也造不出先进的光刻机。但随着美国不断地加码限制措施，以及中国自研态度之后，ASML 有些着急了，并主动劝说美国，限制光刻机出货将会导致全球供应链中断，而中国在其中扮演着非常重要的角色。言下之意，ASML也在担心中国迟早有一天会解决光刻机核心技术难题，到时候它不仅将失去中国市场，而且还会在全球芯片产业竞争中处于被动。因为，中国大陆是全球最大的半导体市场，同时也是全球最大的光刻机市场之一，ASML肯定十分依赖中国大陆市场。

最近ASML又声称，中国自主研制光刻机破坏了全球产业链。然而这种说法显然言之无理。因为中国自主研制，正是因为受到了美国不断加码的出口管制和限制措施。与其指责中国破坏产业链，ASML 更应该反思荷兰作为一个独立实体的责任，而不是盲从美国、日本等国对华的脱钩政策。

中国正积极推进光刻机国产化进程

中国近年来也在极大地支持和投资半导体相关行业。比如上海微电子已经实现90纳米光刻机量产，虽与主流光刻机水平，还存在巨大的差距，这也意味着加快国产化光刻机进程的号角也已吹响。他们也正在有序推进更先进的光刻机研发，早晚能够摆脱对国外光刻机的依赖。须知要全面追上目前最先进的光刻技术水平，中国在一些核心技术和关键零部件方面，还需要尽快实现全面国产化，尤其是在曝光光源（极紫外光源）、光刻胶和掩膜等方面。同时，政府也要达里投入资金和人力，加速与高校和科研单位的紧密合作，也可以引进国外相关高新技术人才。

最后，也希望中国早日实现光刻机完全自主化，达到世界先进水平。ASML 现在不卖中国光刻机，等到中国日后取得最终突破，再想卖也要看中国意愿了。