外媒：荷兰把光刻机事情闹大了

光刻机、蚀刻机等半导体设备的制造芯片必不可少的存在，随着中国芯片产能的不断提升，美国为了能够保住美企进一步扩大在中国市场上的市场份额，挤压中国厂商的市场，所以在今年一月的时候和日本、荷兰达成协议，将联手限制半导体设备的出口。

之前ASML就曾提到过三方协议的存在，中国方面认为三方协议违背国际准则，想要展开调查，只不过由于美国坚决不承认三方协议的存在，因此调查也只能无疾而终。

美国、日本、荷兰基本上占据了全球半导体设备绝大多数的市场份额，可以说美、日、荷兰联手限制半导体设备的出口，那么将会对芯片市场造成严重的影响。对于中国而言，这无疑是一个坏消息。

根据最新消息，荷兰方面在近期宣布将会从9月1日开始正式生效半导体设备的出口管制。有不少外国媒体都表示，荷兰把光刻机事情彻底闹大了。

荷兰半导体设备限制落地

根据路透社的报道，荷兰方面在6月29日正式宣布了半导体设备的出口管制将会在9月1日开始执行，加上之前日本方面宣布的7月23日开始执行半导体设备出口限制。这也就意味着，三方协议基本上都确定了落地时间，对中国的半导体设备限制也即将展开。

对于中国而言，这无疑不是一个好消息，随着荷兰半导体设备出口限制的执行，ASML能够继续出货的光刻机最先进的也就是1980Di，多款浸没式DUV光刻机都无法继续出货。这也就意味着，中国能够从国外购买到的最先进的半导体设备成了38nm制程的设备，完全无法满足目前国内的需求。

中国国内厂商目前可以生产的最先进的光刻机设备的是上海微电子的90nm光刻机。虽然在28nm光刻机和EUV光刻机方面，中国都突破了光源、物镜、双工作台等核心部分，但是想要真正落地还需要一段不短的时间。

这也就意味着，中国芯片厂商将会有一段时间无法获得用于生产目前紧缺的28nm芯片的光刻机设备。如果发展顺利的话，中国厂商可以在年底或是明年的时候从上海微电子那购买到28nm光刻机，如果发展不顺利的话时间可能会更久。

最重要的是，除了荷兰之外，日本的东京电子、尼康、佳能等光刻机厂商和美国的泛林集团等半导体设备厂商也无法自由出货。中国不仅无法获得光刻机，其他的蚀刻机、曝光机等设备也很难从国外进口了。

这些半导体设备虽然中国厂商都能够制造，但是在制程方面和产能方面还是有一定的差距，部分半导体设备的国产替代率甚至只有1%左右，无法满足国内的需求。

美国将考虑升级限制？

美国、日本、荷兰联合限制半导体设备的出口，无疑是打出了一套组合拳，对中国厂商造成的影响十分巨大，甚至有可能导致中国芯片倒退回38nm制程，对中国芯片的发展影响并不小。

虽然荷兰方面在各国场合的表态都证明了荷兰并不想将和中国之间的关系闹僵，也不想和中国在半导体产业方面脱钩。

可是从目前的情况来看，美国一直在背后推波助澜，影响荷兰的光刻机设备出口，荷兰的态度也在美国的影响之下悄然改变。从之前荷兰访华的时候表示不会与中国脱钩以及ASML副总裁公开强调世界供应链不可能将某个国家排除在外，都能够看出来荷兰并不想限制半导体设备的出口。

虽然荷兰方面可能会通过ASML出货先进光刻机给中国厂商的申请，不过美国肯定会极力阻止这种事情的发展。根据最新消息，美国打算在去年芯片规则的前提之下，进一步扩大限制的范围，并且光刻机等半导体设备也在扩大限制的名单当中。

根据美国媒体的报道，美国将有可能扩大半导体设备的限制范围，哪怕只含有小部分美国生产的零部件，也不允许出货给中国尝试。这也就意味着，ASML能够继续出货中国市场的光刻机又将进一步缩减。

毕竟哪怕是ASML这个全球最大的光刻机厂商也无法完全绕开美国的零部件和技术。以ASML的EUV光刻机为例，其中完全自主研发的ASML技术仅有10%左右，其中有不少的零部件和技术都来自于美国。

一旦美国开始执行这一项限制，那么目前可以出货的1980Di光刻机也无法继续出货。预计荷兰方面的出口限制范围最少也会从38nm制程提高到45nm制程，和日本一样。

美国完全没有意识到芯片产业的全球化分工作正在被美国推向死亡，随着各国之间的芯片产业分工合作消失，受到影响最严重的就是美国。这和人民日本之前所说的“美国利用技术限制，只不过是在毁灭自己的根基罢了。”强权永远无法取得胜利，中国厂商必然会加强自主研发，突破技术壁垒。